水晶振動子を用いた絶縁物薄膜のスパタリングイールド測定
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- アルミナ高周波窓へのTiN薄膜コーティング
- 高周波放電電極上の自己バイアス電位分布の研究
- 窒化チタンの反応性スパッタ製膜における真空環境の影響
- 電力一定放電下の反応性スパッタリングによる酸化シリコンの組成制御
- X線光電子分光法の深さ方向分析から分かるSi基板上In島状膜の構造およびその膜厚変化
- 多孔質シリコンのPLスペクトルの経時変化と表面修飾の効果
- スパッタリングプラズマ中の銅原子密度の位置分解発光分光による測定およびそのターゲット-基板間距離による変化
- Cuスパッタ製膜における成膜速度のターゲット-基板間距離依存性
- 任意の屈折率を持つ層からなる光学多層膜フィルタの最適設計
- スパッタ銅膜の表面ラフネス成長の原子間力顕微鏡による観察
- 角度分解光散乱による表面ラフネスの測定
- 透明薄膜の屈折率の新しい決定法およびそのMgO膜への適用
- 銅-インジウム重ね蒸着膜における合金化進行過程のX線光電子分光法による観察
- スパッタ法によって作製した硼化ランタン薄膜の組成と物性
- ものづくりは学び, 拓き, 伝えたい文化
- 表面技術誌の国際化
- 薄膜の付着力測定
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定-2- (第31回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 固体表面上の薄膜の付着および内部応力測定 (ドライプロセスによる機能材料の創製)
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果-2- (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 複合膜の付着力測定
- Siウェハ-表面酸化層の厚さがAg蒸着膜の付着力に及ぼす効果 (第28回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- TiO_2 上の高密着力・高純度 Pt 薄膜の形成
- 大電力用高周波窓でのマルチパクタ現象
- 大電力用高周波窓の破壊現象と物性との関連
- 本学会創立60周年を迎えて
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定 (2)
- TiN/アルミナの二次電子放出
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定
- 複合膜の付着力測定
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果 (2)
- Siウエハー表面酸化層の厚さがAg蒸着膜の付着力に及ぼす効果
- RHEEDによるPb/Si (111) 表面超構造の研究
- カーボニゼーションが及ぼす水素リサイクリング現象への効果
- 炭素系薄膜の光学定数
- TiN/アルミナセラミックのAES及びELS測定
- アルミナ高周波窓の二次電子放出及びカソードルミネセンス (2)
- アルミナ高周波窓の二次電子放出及びカソードルミネセンス
- 超高真空装置を用いてのTiNスパッタ膜の製作
- アブストラクト
- コ-ティングの内部応力 (核融合装置における第一壁の諸問題)
- 金属蒸着膜の電気抵抗の時間変化
- 金属蒸着膜の付着力測定 (V)
- 金属蒸着膜の付着力測定 (IV)
- 金属蒸着膜の付着力測定 (III)
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果
- 金属蒸着膜の付着力測定 (II)
- 金属蒸着膜の付着力測定
- 非晶質ゲルマニウム薄膜の内部応力, ヤング率
- 角度分解低速電子エネルギー損失分光法によるIn/Si (111) 表面超構造の研究
- RF-sputtering で作製された炭素薄膜の作製条件と光学定数, 比抵抗, 付着力
- 固体表面上の薄膜の付着および内部応力測定
- コ-ティング膜の密着性評価
- 付着強度 (薄膜の機械的性質の評価法(技術ノ-ト))
- 真空製膜による薄膜の密着性 : −密着に及ぼす各種因子と改善方法−
- スパッタリング (特集 高機能を付与する成膜技術最前線) -- (プロセス技術編)
- LEED/RHEEDによる表面・界面の分析技術 (〈特集〉最近の表面・界面の評価技術)
- 金蒸着膜の熱膨脹
- クライオポンプを用いた蒸着装置
- 誘電体薄膜の構造及び特性に与えるイオンビーム照射の効果
- 表面弾性波素子を用いた薄膜の膜厚およびスパタリングイールド測定
- 水晶振動子を用いた絶縁物薄膜のスパタリングイールド測定
- 薄膜の付着強度
- TiCコ-ティングのヤング率と内部応力 (「低Zコ-ティング膜のキャラクタライゼ-ションワ-クショップ」「プラズマ・壁相互作用に関する研究会」報告) -- (表面被膜の残留応力)
- Niスパッタ膜の構造におよぼすバイアスの効果
- Arガス中で蒸着された銀薄膜の電顕観察
- 炭素基板上のチタン蒸着膜の力学的性質とその焼鈍による変化
- 金属蒸着膜の力学的性質
- Si (111) 4×1-Inの特性に及ぼす電流の効果
- Si (111) 上のInの2次元凝縮相
- クライオポンプの特性 (II)
- アルミニウム,銀蒸着膜の付着力への湿度の影響(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- TiN膜及びTi膜の酸化 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- TiNをコ-ティングしたアルミナ高周波窓の性質(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- レゾナントリングによるアルミナ高周波窓の試験 (第27回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和61年11月12日〜14日,大阪)
- レゾナントリングによるアルミナ高周波窓の試験-2- (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- In/Si(111)表面超構造の仕事関数(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- TiN薄膜によるアルミナ高周波窓のマルチパクタ抑制 (第26回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和60年11月6日〜8日,東京)
- 各種誘電体材料の大電力高周波窓としての特性 (第31回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- スパタリング法によるTiN薄膜の形成 (第26回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和60年11月6日〜8日,東京)
- 蒸着薄膜の膜厚測定法-2-
- 蒸着薄膜の膜厚測定法-1-