スパッタリングプラズマ中の銅原子密度の位置分解発光分光による測定およびそのターゲット-基板間距離による変化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2004-03-20
著者
-
馬場 茂
成蹊大学理工学部
-
中野 武雄
成蹊大学理工学部
-
中野 武雄
成蹊大学工学部物理情報工学科
-
馬場 茂
成蹊大学工学部物理情報工学科
-
田中 幸治
成蹊大学工学部物理情報工学科
-
馬場 茂
成蹊大学工学部
関連論文
- 第14回真空国際会議・第10回固体表面国際会議・第5回ナノメータースケール科学技術国際会議・第10回定量表面分析国際会議(IVC-14/ICSS-10/NANO-5/QSA-10)
- 真空夏季大学応用技術講座「著者と学ぶ 薄膜の基本技術」の報告
- スパッタリング法の実務的なQ&A解説 (オプトロニクス 液晶・プラズマディスプレイ・光ディスクで多用される スパッタリング法の実務Q&A解説)
- 第29回真空展VACUUM2007併設「真空トピックス」の報告
- 第28回真空展VACUUM2006併設「真空トピックス」の報告
- スパッタリング製膜プロセスの研究における最近の展開
- 窒化チタンの反応性スパッタ製膜における真空環境の影響
- 電力一定放電下の反応性スパッタリングによる酸化シリコンの組成制御
- X線光電子分光法の深さ方向分析から分かるSi基板上In島状膜の構造およびその膜厚変化
- 多孔質シリコンのPLスペクトルの経時変化と表面修飾の効果
- スパッタリングプラズマ中の銅原子密度の位置分解発光分光による測定およびそのターゲット-基板間距離による変化
- Cuスパッタ製膜における成膜速度のターゲット-基板間距離依存性
- 中高圧力下(2-20Pa)のスパッタリングにおける粒子輸送過程
- 任意の屈折率を持つ層からなる光学多層膜フィルタの最適設計
- スパッタ銅膜の表面ラフネス成長の原子間力顕微鏡による観察
- 角度分解光散乱による表面ラフネスの測定
- 透明薄膜の屈折率の新しい決定法およびそのMgO膜への適用
- 銅-インジウム重ね蒸着膜における合金化進行過程のX線光電子分光法による観察
- スパッタ法によって作製した硼化ランタン薄膜の組成と物性
- ものづくりは学び, 拓き, 伝えたい文化
- 表面技術誌の国際化
- 薄膜の付着力測定
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定-2- (第31回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 固体表面上の薄膜の付着および内部応力測定 (ドライプロセスによる機能材料の創製)
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果-2- (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 複合膜の付着力測定
- Siウェハ-表面酸化層の厚さがAg蒸着膜の付着力に及ぼす効果 (第28回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定 (2)
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定
- 複合膜の付着力測定
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果 (2)
- Siウエハー表面酸化層の厚さがAg蒸着膜の付着力に及ぼす効果
- RHEEDによるPb/Si (111) 表面超構造の研究
- コ-ティングの内部応力 (核融合装置における第一壁の諸問題)
- 金属蒸着膜の付着力測定 (V)
- 金属蒸着膜の付着力測定 (IV)
- 金属蒸着膜の付着力測定 (III)
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果
- 金属蒸着膜の付着力測定 (II)
- 金属蒸着膜の付着力測定
- 非晶質ゲルマニウム薄膜の内部応力, ヤング率
- RF-sputtering で作製された炭素薄膜の作製条件と光学定数, 比抵抗, 付着力
- 固体表面上の薄膜の付着および内部応力測定
- コ-ティング膜の密着性評価
- 付着強度 (薄膜の機械的性質の評価法(技術ノ-ト))
- 真空製膜による薄膜の密着性 : −密着に及ぼす各種因子と改善方法−
- スパッタリング (特集 高機能を付与する成膜技術最前線) -- (プロセス技術編)
- LEED/RHEEDによる表面・界面の分析技術 (〈特集〉最近の表面・界面の評価技術)
- 表面弾性波素子を用いた薄膜の膜厚およびスパタリングイールド測定
- 水晶振動子を用いた絶縁物薄膜のスパタリングイールド測定
- TiCコ-ティングのヤング率と内部応力 (「低Zコ-ティング膜のキャラクタライゼ-ションワ-クショップ」「プラズマ・壁相互作用に関する研究会」報告) -- (表面被膜の残留応力)
- Niスパッタ膜の構造におよぼすバイアスの効果
- Arガス中で蒸着された銀薄膜の電顕観察
- 炭素基板上のチタン蒸着膜の力学的性質とその焼鈍による変化
- 金属蒸着膜の力学的性質
- Si (111) 4×1-Inの特性に及ぼす電流の効果
- Si (111) 上のInの2次元凝縮相
- スパッタプロセスを用いたスピント型電子源の作製(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- プラズマの基礎