スパッタリング法の実務的なQ&A解説 (オプトロニクス 液晶・プラズマディスプレイ・光ディスクで多用される スパッタリング法の実務Q&A解説)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 第14回真空国際会議・第10回固体表面国際会議・第5回ナノメータースケール科学技術国際会議・第10回定量表面分析国際会議(IVC-14/ICSS-10/NANO-5/QSA-10)
- 真空夏季大学応用技術講座「著者と学ぶ 薄膜の基本技術」の報告
- スパッタリング法の実務的なQ&A解説 (オプトロニクス 液晶・プラズマディスプレイ・光ディスクで多用される スパッタリング法の実務Q&A解説)
- 第29回真空展VACUUM2007併設「真空トピックス」の報告
- 第28回真空展VACUUM2006併設「真空トピックス」の報告
- スパッタリング製膜プロセスの研究における最近の展開
- 窒化チタンの反応性スパッタ製膜における真空環境の影響
- 電力一定放電下の反応性スパッタリングによる酸化シリコンの組成制御
- X線光電子分光法の深さ方向分析から分かるSi基板上In島状膜の構造およびその膜厚変化
- 多孔質シリコンのPLスペクトルの経時変化と表面修飾の効果
- スパッタリングプラズマ中の銅原子密度の位置分解発光分光による測定およびそのターゲット-基板間距離による変化
- Cuスパッタ製膜における成膜速度のターゲット-基板間距離依存性
- 中高圧力下(2-20Pa)のスパッタリングにおける粒子輸送過程
- 任意の屈折率を持つ層からなる光学多層膜フィルタの最適設計
- スパッタ銅膜の表面ラフネス成長の原子間力顕微鏡による観察
- 角度分解光散乱による表面ラフネスの測定
- 透明薄膜の屈折率の新しい決定法およびそのMgO膜への適用
- 銅-インジウム重ね蒸着膜における合金化進行過程のX線光電子分光法による観察
- スパッタ法によって作製した硼化ランタン薄膜の組成と物性
- スパッタプロセスを用いたスピント型電子源の作製(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- プラズマの基礎