馬場 茂 | 東京大学工学部
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概要
関連著者
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金原 粲
東京大学工学部
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馬場 茂
東京大学工学部
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馬場 茂
東京大学工学部物理工学科
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馬場 茂
成蹊大学理工学部
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馬場 茂
成蹊大学工学部
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菊地 章
東京工業高等専門学校
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金原 粲
東京大学生産技術研究所
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金原 粲
東京大学工学部物理工学科
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村上 志郎
日立金属 先端エレクトロニクス研
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平山 博之
東京大学工学部物理工学科
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潮 嘉次郎
東京大学工学部物理工学科
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山下 昌哉
東京大学工学部物理工学科
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村上 志郎
日立金属 (株)
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松本 裕治
電子技術総合研究所
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大和田野 芳郎
電子技術総合研究所
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清水 三郎
日本真空技術(株)
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加藤 敏郎
名古屋大学工学部
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清水 肇
電子技術総合研究所
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浦野 俊夫
神戸大学工学部
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村上 寛
電子技術総合研究所
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雨宮 進
名古屋大学工学部原子核工学科
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前野 勝樹
日本原子力研究所
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山川 洋幸
日本真空技術(株)
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工藤 勲
電子技術総合研究所
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三重野 哲
静岡大学理学部物理学科
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増田 俊雄
名古屋大学全学技術センター工学技術系
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小野 雅敏
電子技術総合研究所
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中東 孝浩
日新電機(株)先端技術研究開発部技術研究グループ
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近藤 行人
日本電子株式会社
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市ノ川 竹男
早稲田大学
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一村 信吾
電子技術総合研究所
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畠山 力三
東北大学工学研究科
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塚越 修
日本真空技術(株)技術開発部
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君島 文雄
日本真空技研
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小宮 宗治
日本真空技研
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国分 清秀
電子技術総合研究所
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周 均銘
中国科学院物理研
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平田 正紘
電子技術総合研究所
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金持 徹
神戸大学工学部
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吉村 長光
日本電子株式会社
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平野 治男
日本電子株式会社
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坂本 雄一
理化学研究所
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福原 淳司
日本真空技術(株)
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清水 三郎
日本真空技術
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小角 雄一
(株)日立製作所 ストレージ事業部
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石部 行雄
理化学研究所
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丹上 正安
日新電機(株)研究開発本部
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荻原 徳男
日本原子力研究所東海研究所
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山川 洋幸
日本真空技術
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磯貝 秀明
電子技術総合研究所
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大山 等
理化学研究所
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加藤 茂樹
理化学研究所
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矢口 裕之
東京大学工学部物理工学科
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藤本 文範
東京大学教養学部
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小海 秀樹
東洋大学工学部電気工学科
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橋詰 宙子
電子技術総合研究所
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釣田 幸雄
名古屋大学工学部原子核工学科
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浅野 正裕
名古屋大学プラズマ研究所
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高見沢 計一
東京大学工学部物理工学科
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堀口 青史
日電アネルバ (株)
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三重野 哲
静岡大学理学部
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金内 明宏
名古屋大学工学部原子核工学科
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柳田 博司
日本真空技術 (株)
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水野 正明
東京大学工学部物理工学科
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増田 俊雄
名古屋大学工学部原子核工学科
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細川 直吉
日電アネルバ
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周 均銘
中国科学院北京物理研究所
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佐藤 徳芳
東北大学工学部
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前野 勝樹
日本原子力研究所那珂研究所
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松島 康浩
神戸大学工学部
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新井 智久
東京大学工学部物理工学科
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雨宮 進
名古屋大学原子核工学教室
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荻原 徳男
日本原子力研究所那珂研究所
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市ノ川 竹男
早稲田大学理工学部
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菊地 章
東京工業高等専門学校電子工学科
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唐岩 正人
三井石油化学工業 (株) 総合研究所
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藤本 真美
神戸大学工学部
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大山 等
理化学研究所プラズマ物理研究室
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能代谷 彰二
日本真空技術(株)
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吉成 洋治
日本原子力研究所那珂研究所
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田中 裕嗣
セイコー電子工業株式会社
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相田 良平
セイコー電子工業株式会社
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永田 篤士
セイコー電子工業株式会社
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野田 信明
日電アネルバ(株)
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水内 享
日電アネルバ(株)
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赤石 憲也
日電アネルバ(株)
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本島 修
日電アネルバ(株)
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飯吉 厚夫
日電アネルバ(株)
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宇尾 光治
日電アネルバ(株)
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畠山 忠雄
日電アネルバ(株)
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青沼 大介
日電アネルバ(株)
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広田 喜弘
日電アネルバ(株)
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岡本 康治
日新電機(株)
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上條 栄治
日新電機(株)
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瀬戸口 佳孝
日新電機(株)
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鬼頭 諒
(株)日立製作所生産技術研究所
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東海 正家
(株)日立製作所土浦工場
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片川 武
日本真空技術(株)
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堀口 青史
日電アネルバ(株)
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柳田 博司
日本真空技術(株)
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荻原 徳男
日本原子力研究所(関西研究所)
-
佐藤 徳芳
東北大学工学部電子工学科
-
細川 直吉
日電アネルバ(株)
-
加藤 茂樹
理化学研究所プラズマ物理研究室
-
中東 孝浩
日新電機(株)
-
浅野 正裕
名古屋大学工学部原子核工学科
-
丹上 正安
日新電機(株)
-
小角 雄一
(株)日立製作所生産技術研究所
-
石部 行雄
理化学研究所プラズマ物理研究室
-
君島 文雄
日本真空技術(株)
-
塚越 修
日本真空技術(株)
著作論文
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定 (2)
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定
- 複合膜の付着力測定
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果 (2)
- RHEEDによるPb/Si (111) 表面超構造の研究
- アブストラクト
- 金属蒸着膜の付着力測定 (V)
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果
- 金属蒸着膜の付着力測定 (II)
- 金属蒸着膜の付着力測定
- 角度分解低速電子エネルギー損失分光法によるIn/Si (111) 表面超構造の研究
- 固体表面上の薄膜の付着および内部応力測定
- 表面弾性波素子を用いた薄膜の膜厚およびスパタリングイールド測定
- 水晶振動子を用いた絶縁物薄膜のスパタリングイールド測定
- Niスパッタ膜の構造におよぼすバイアスの効果
- Arガス中で蒸着された銀薄膜の電顕観察
- 炭素基板上のチタン蒸着膜の力学的性質とその焼鈍による変化
- 金属蒸着膜の力学的性質
- Si (111) 4×1-Inの特性に及ぼす電流の効果
- In/Si(111)表面超構造の仕事関数(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- スパタリング法によるTiN薄膜の形成 (第26回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和60年11月6日〜8日,東京)