丹上 正安 | 日新電機(株)

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概要

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関連著者

• 丹上 正安

  日新電機(株)研究開発本部

• 丹上 正安

  日新電機(株)

• 松田 耕自

  日新電機

• 酒井 滋樹

  日新イオン機器株式会社

• 松田 耕自

  日新電機(株)

• 丹上 正安

  日新電機

• 酒井 滋樹

  日新電機(株)研究開発本部

• 後藤 康仁

  京都大学工学研究科

• 辻 博司

  京都大学工学研究科

• 石川 順三

  京都大学工学研究科

• 豊田 啓孝

  京都大学工学部電子工学教室

• 豊田 啓孝

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学教室

• 松本 裕治

  電子技術総合研究所

• 大和田野 芳郎

  電子技術総合研究所

• 清水 三郎

  日本真空技術(株)

• 加藤 敏郎

  名古屋大学工学部

• 清水 肇

  電子技術総合研究所

• 浦野 俊夫

  神戸大学工学部

• 村上 寛

  電子技術総合研究所

• 雨宮 進

  名古屋大学工学部原子核工学科

• 金原 粲

  東京大学工学部

• 前野 勝樹

  日本原子力研究所

• 山川 洋幸

  日本真空技術(株)

• 青木 正彦

  日新電機(株)

• 工藤 勲

  電子技術総合研究所

• 三重野 哲

  静岡大学理学部物理学科

• 増田 俊雄

  名古屋大学全学技術センター工学技術系

• 小野 雅敏

  電子技術総合研究所

• 中東 孝浩

  日新電機(株)先端技術研究開発部技術研究グループ

• 近藤 行人

  日本電子株式会社

• 市ノ川 竹男

  早稲田大学

• 一村 信吾

  電子技術総合研究所

• 畠山 力三

  東北大学工学研究科

• 塚越 修

  日本真空技術(株)技術開発部

• 君島 文雄

  日本真空技研

• 小宮 宗治

  日本真空技研

• 国分 清秀

  電子技術総合研究所

• 平田 正紘

  電子技術総合研究所

• 金持 徹

  神戸大学工学部

• 吉村 長光

  日本電子株式会社

• 平野 治男

  日本電子株式会社

• 坂本 雄一

  理化学研究所

• 福原 淳司

  日本真空技術(株)

• 清水 三郎

  日本真空技術

• 小角 雄一

  (株)日立製作所 ストレージ事業部

• 石部 行雄

  理化学研究所

• 岡山 芳央

  三洋電機株式会社技術開発本部

• 岡山 芳央

  京都大学工学部電子工学教室

• 荻原 徳男

  日本原子力研究所東海研究所

• 山川 洋幸

  日本真空技術

• 高橋 正人

  日新電機(株)

• 山原 登

  日新電機(株)

• 河合 禎

  日新電機(株)研究開発部

• 大西 浩之

  京都大学工学部

• 高橋 正人

  日新電機

• 磯貝 秀明

  電子技術総合研究所

• 大山 等

  理化学研究所

• 加藤 茂樹

  理化学研究所

• 藤本 文範

  東京大学教養学部

• 小海 秀樹

  東洋大学工学部電気工学科

• 橋詰 宙子

  電子技術総合研究所

• 釣田 幸雄

  名古屋大学工学部原子核工学科

• 浅野 正裕

  名古屋大学プラズマ研究所

• 堀口 青史

  日電アネルバ (株)

• 三重野 哲

  静岡大学理学部

• 金内 明宏

  名古屋大学工学部原子核工学科

• 柳田 博司

  日本真空技術 (株)

• 増田 俊雄

  名古屋大学工学部原子核工学科

• 細川 直吉

  日電アネルバ

• 佐藤 徳芳

  東北大学工学部

• 前野 勝樹

  日本原子力研究所那珂研究所

• 松島 康浩

  神戸大学工学部

• 雨宮 進

  名古屋大学原子核工学教室

• 荻原 徳男

  日本原子力研究所那珂研究所

• 馬場 茂

  東京大学工学部

• 市ノ川 竹男

  早稲田大学理工学部

• 藤本 真美

  神戸大学工学部

• 大山 等

  理化学研究所プラズマ物理研究室

• 能代谷 彰二

  日本真空技術(株)

• 吉成 洋治

  日本原子力研究所那珂研究所

• 田中 裕嗣

  セイコー電子工業株式会社

• 相田 良平

  セイコー電子工業株式会社

• 永田 篤士

  セイコー電子工業株式会社

• 野田 信明

  日電アネルバ(株)

• 水内 享

  日電アネルバ(株)

• 赤石 憲也

  日電アネルバ(株)

• 本島 修

  日電アネルバ(株)

• 飯吉 厚夫

  日電アネルバ(株)

• 宇尾 光治

  日電アネルバ(株)

• 畠山 忠雄

  日電アネルバ(株)

• 青沼 大介

  日電アネルバ(株)

• 広田 喜弘

  日電アネルバ(株)

• 岡本 康治

  日新電機(株)

• 上條 栄治

  日新電機(株)

• 瀬戸口 佳孝

  日新電機(株)

• 鬼頭 諒

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 東海 正家

  (株)日立製作所土浦工場

• 片川 武

  日本真空技術(株)

• 堀口 青史

  日電アネルバ(株)

• 柳田 博司

  日本真空技術(株)

• 荻原 徳男

  日本原子力研究所(関西研究所)

• 佐藤 徳芳

  東北大学工学部電子工学科

• 細川 直吉

  日電アネルバ(株)

• 加藤 茂樹

  理化学研究所プラズマ物理研究室

• 中東 孝浩

  日新電機(株)

• 浅野 正裕

  名古屋大学工学部原子核工学科

• 小角 雄一

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 石部 行雄

  理化学研究所プラズマ物理研究室

• 君島 文雄

  日本真空技術(株)

• 塚越 修

  日本真空技術(株)

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著作論文

• 負イオン注入における絶縁した電極表面の帯電電位のイオン電流密度依存性
• 極浅接合形成用イオン注入装置の開発
• 微細周期構造にイオン注入したときの素子帯電のシミュレーション
• 絶縁性基板への負イオン注入によるチャージアップの軽減
• アブストラクト

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