丹上 正安 | 日新電機

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概要

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• 日新電機の論文著者

関連著者

• 丹上 正安

  日新電機

• 松田 耕自

  日新電機

• 酒井 滋樹

  日新イオン機器株式会社

• 松田 耕自

  日新電機(株)

• 高野 弘道

  神奈川高速技術支援財団

• 横田 勝弘

  関西大学工学部電子工学科

• 中村 和広

  関西大学工学部

• 横田 勝弘

  関西大学工学部

• 後藤 康仁

  京都大学工学研究科

• 辻 博司

  京都大学工学研究科

• 石川 順三

  京都大学工学研究科

• 中村 和広

  関西大学工学部専任講師

• 酒井 滋樹

  日新電機(株)研究開発本部

• 丹上 正安

  日新電機(株)研究開発本部

• 丹上 正安

  日新電機(株)

• 高野 弘道

  神奈川高度技術支援財団

• 豊田 啓孝

  京都大学工学部電子工学教室

• 豊田 啓孝

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学教室

• 熊谷 正夫

  神奈川高度技術支援財団

• 熊谷 正夫

  神奈川産技セ

• 中瀬 周作

  関西大学工学部

• 西村 英敏

  関西大学工学部・HRC

• 寺田 耕一郎

  関西大学工学部・HRC

• 酒井 滋樹

  日新電機

• 熊谷 正夫

  神奈川産総研

• 青木 正彦

  日新電機(株)

• 平井 清人

  神奈川高度技術支援財団

• 永 浩介

  関西大学工学部

• 岡山 芳央

  三洋電機株式会社技術開発本部

• 岡山 芳央

  京都大学工学部電子工学教室

• 高橋 正人

  日新電機(株)

• 山原 登

  日新電機(株)

• 南雲 正二

  京都大学工学部電子工学教室

• 酒井 滋樹

  日新電機株式会社研究開発本部

• 丹上 正安

  日新電機株式会社研究開発本部

• 松田 耕自

  日新電機株式会社研究開発本部

• 河合 禎

  日新電機(株)研究開発部

• 大西 浩之

  京都大学工学部

• 高橋 正人

  日新電機

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著作論文

• ジボランとアルシンのイオン注入によるシリコンへの浅いp形とn形層の形成
• 水素稀釈したジボランイオンシャワー注入されたシリコン中の欠陥分布
• n形半導体表面に作る薄いp形半導体層の厚さを水素添加で制御する新しい技術
• シリコンへのジボランイオン注入における水素分子イオンのボロン分布への影響
• ジボランイオン注入によってシリコンに添加されたボロンの活性化
• 負イオン注入における絶縁した電極表面の帯電電位のイオン電流密度依存性
• 極浅接合形成用イオン注入装置の開発
• 微細周期構造にイオン注入したときの素子帯電のシミュレーション
• イオン誘起二次電子による負イオン注入時の絶縁物基板の帯電測定
• 絶縁性基板への負イオン注入によるチャージアップの軽減

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