寺田 耕一郎 | 関西大学工学部・HRC

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概要

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• 関西大学工学部・HRCの論文著者

関連著者

• 熊谷 正夫

  神奈川高度技術支援財団

• 高野 弘道

  神奈川高度技術支援財団

• 熊谷 正夫

  神奈川産技セ

• 高野 弘道

  神奈川高速技術支援財団

• 寺田 耕一郎

  関西大学工学部・HRC

• 熊谷 正夫

  神奈川産総研

• 横田 勝弘

  関西大学工学部電子工学科

• 横田 勝弘

  関西大学工学部

• 酒井 滋樹

  日新イオン機器株式会社

• 平井 清人

  神奈川高度技術支援財団

• 丹上 正安

  日新電機

• 西村 英敏

  関西大学工学部・HRC

• 酒井 滋樹

  日新電機

• 中村 和広

  関西大学工学部

• 横田 勝弘

  関西大・工

• 渡辺 正則

  イオン工学センター

• 細川 浩一

  関西大・工

• 中村 和広

  関西大学工学部専任講師

• 寺田 耕一郎

  関西大・工

• 高木 俊宣

  イオン工学センター

• 渡辺 正則

  イオン工学研

• 渡邉 正則

  (株)イオン工学研究所

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著作論文

• 水素ECRプラズマ処理による砒素注入されたシリコンの浅いN形層の形成
• シリコンへのジボランイオン注入における水素分子イオンのボロン分布への影響
• ジボランイオン注入によってシリコンに添加されたボロンの活性化

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