中村 和広 | 関西大学工学部
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概要
関連著者
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中村 和広
関西大学工学部
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中村 和広
関西大学工学部専任講師
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横田 勝弘
関西大学工学部電子工学科
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横田 勝弘
関西大学工学部
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丹上 正安
日新電機
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高野 弘道
神奈川高速技術支援財団
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松田 耕自
日新電機
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高野 弘道
神奈川高度技術支援財団
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松田 耕自
日新電機(株)
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中瀬 周作
関西大学工学部
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大学
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熊谷 正夫
神奈川高度技術支援財団
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田村 進
関西大学ordist・工学部
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田中 大貴
関西大学工学部
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田村 進
関西大学工学部
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新井 泰彦
関西大学工学部
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松波 弘之
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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松波 弘之
京大工
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松波 弘之
京都大学大学院工学研究科
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酒井 滋樹
日新イオン機器株式会社
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赤松 勝也
関西大学
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大
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赤松 勝也
関西大学工学部
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中村 和広
関西大学工学部電子工学科
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熊谷 正夫
神奈川産技セ
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中村 和広
関西大学ハイテクリサーチセンター
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清水 博文
関西大学工学部電子工学科
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永 浩介
関西大学工学部
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西村 英敏
関西大学工学部・HRC
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寺田 耕一郎
関西大学工学部・HRC
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酒井 滋樹
日新電機
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熊谷 正夫
神奈川産総研
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赤松 勝也
関西大学化学生命工学部
著作論文
- Compositional structure of dual TiNO layers deposited on SUS 304 by an IBAD technique
- Titanium oxy-nitride films deposited on stainless steel by an ion beam assisted deposition technique
- シリコン系材料による電子・光信号変換素子の開発ならびに製作 (産学連携への掛け橋)
- n形基板シリコン太陽電池に関する理論的検討
- シリコンの分子線エピタキシー(MBE)プロセスにおける基板のサーマルクリーニング温度の低温化
- An effect of preheat-treatment on the formation of titanium-oxide films by sintering a titanium/silicon-oxide structure in an oxygen atmosphere
- Preparation of titanium-dioxide films on silicon by solid-state reaction between titanium and silicon-dioxide in oxygen
- Deposition of Titanium Oxide Films with High dielectric Constants on Silicon by an Ion Beam Assist Deposition Technique
- An Oxygen Ion Dose Dependence of Dielectric Constant and Surface Roughness of Titanium Oxide Films Deposited on Silicon by an Ion Beam Assisted Deposition Technique
- Preferential orientation of high permittivity TiO_2 deposited on Si wafers by an IBAD technique
- ジボランとアルシンのイオン注入によるシリコンへの浅いp形とn形層の形成
- 水素稀釈したジボランイオンシャワー注入されたシリコン中の欠陥分布
- n形半導体表面に作る薄いp形半導体層の厚さを水素添加で制御する新しい技術
- ステンレス表面の硬化 (産学連携への掛け橋)
- シリコンへのジボランイオン注入における水素分子イオンのボロン分布への影響
- Si基板上にヘテロエピタキシャル成長したGaP層のひずみ評価
- 太陽電池を考える : 環境問題の観点から