K21 酸化マンガン系スラリーを用いたSic単結晶基板の精密加工プロセスに関する研究(K2CMPI)
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概要
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- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2011-03-17
著者
-
土肥 俊郎
埼玉大学教育学部
-
黒河 周平
九大
-
土肥 俊郎
九大
-
岸井 貞浩
富士通研究所
-
土肥 俊郎
九州大学大学院
-
山崎 努
九大
-
河瀬 康弘
三菱化学株式会社
-
尹 涛
九大院
-
大西 修
九大
-
長谷川 正
九大院
-
岸井 貞浩
富士通研究所・九大院
-
河瀬 康弘
三菱化学
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