光励起グラフェンの非平衡キャリア緩和過程とテラヘルツ帯における反転分布(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
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概要
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パルス光学励起された真性グラフェンにおける室温での反転分布の理論解析を行う。キャリア緩和過程の解析のため、キャリア間散乱による擬平衡化とバンド内・バンド間光学フォノン散乱によるエネルギー緩和と再結合を考慮に入れた、半古典ボルツマン方程式に基づくモデルを構築する。解析の結果、バンド内光学フォノン放出によるエネルギー緩和速度とバンド間光学フォノン放出による再結合速度との不均衡により、パルス励起されたグラフェンで反転分布が実現できることを明らかにする。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2010-12-09
著者
-
尾辻 泰一
東北大学電気通信研究所
-
尾辻 泰一
東北大学電気通信研究所:jst-crest
-
尾辻 泰一
Ntt光ネットワークシステム研究所
-
ルリズィー ヴィクトー
会津大学コンピュータ理工学部
-
Ryzhii Victor
会津大 コンピュータ理工
-
尾辻 泰一
NTTシステムエレクトロニクス研究所
-
佐藤 昭
会津大学コンピュータ物性学講座
-
尾辻 泰一
東北大学 電気通信研究所
-
Ryzhii Victor
会津大学コンピュータ理工学研究科:jst-crest
-
佐藤 昭
東北大学電気通信研究所
-
リズィー ヴィクトール
会津大学ナノエレクトロニクス講座
-
佐藤 昭
東北大学電気通信研究所:jst-crect
-
尾辻 泰一
東北大 電通研
-
尾辻 康一
九州工大
-
ボウバンガ-トムベット ステファン
東北大学電気通信研究所
-
リズィー ヴィクトール
会津大学大学院コンピュータ理工学研究科:jst-crest
-
佐藤 昭
東北大学 電気通信研究所
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