グラフェンデバイスの開発と今後の展望(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)
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概要
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本稿では、ポストシリコンCMOS技術として我々が開発を進めているSi基板上にエピタキシャル成長したグラフェンとその光・電子デバイス応用について研究状況を紹介する.グラフェンの形成技術としては,グラファイト片からのピーリングとエピタ・キシャル成長したSiCの表面改質が一般的であるが,ポストCMOS新材料としての適用を考慮すると,Si基板の導入と半導体集積加工に耐える量産性に優れた低温成長技術が不可欠である.その要求に応えるために,有機シランガスソースMBEによるSi基板上への3C-SiCエピ成長と表面改質によるグラフェン・オン・シリコン(GOS)成長技術が開発されている.本GOS材料を用いて,グラフェンをチャネルとするトランジスタ動作が実現されている.グラフェン成長層数の制御や結晶品質など,GOSプロセス技術の改善・発展,オーミック電極形成,閾値制御,不純物注入制御など,今後解決すべき課題は多い.グラフェンの特異な電子輸送特性は,FET応用以外にも,プラズモニックデバイス,テラヘルツレーザーなど,多様な電子デバイスへの活用が期待される.ここではそれらの一端も併せて紹介する.
- 2009-07-09
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