10-80 Gb/s光電気融合型パルスパターン発生とその高速電子デバイス評価への応用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
超高速電子デバイスの大信号パルス応答評価の実現を目的として、光電気融合型パルスパターン発生器、及び光電気変換プローブを開発した.パルスパターン発生では,電気光学位相変調と分散補償による短光パルス発生法をベースとして、新たにバンド幅可変光フィルタを導入し、10-80Gb/sにわたって20dB以上の高い消光比を実現した.光電気変換プローブでは広帯域,高効率導波路型pinPDの搭載とともに,電気伝送路ヘの同軸構造の導入により、帯域55 GHz,効率0.75 A/Wに加え,群遅延歪1 ps以下の低分散化を達成した.開発したパルスパターン発生/印加システムを超広帯域HEMT分布型増幅器ICの評価に適用し、100Gb/s級の大信号パルスパターン応答特性評価ツールとしての有効性を確認した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-06-26
著者
-
永妻 忠夫
NTT通信エネルギー研究所
-
加藤 和利
NTT 光エレクトロニクス研究所
-
尾辻 泰一
Ntt光ネットワークシステム研究所
-
永妻 忠夫
NTT LSI研究所
-
加藤 和利
Nttフォトニクス研究所
-
矢板 信
NTT LSI研究所
-
矢板 信
Nttシステムエレクトロニクス研究所
-
尾辻 泰一
NTT LSI研究所
関連論文
- 光学励起グラフェンによるコヒーレントテラヘルツ放射の観測(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
- プラズモン共鳴型エミッタのマルチチップ動作によるテラヘルツ分光測定(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
- プラズモン共鳴テラヘルツエミッター光パルス応答のモンテカルロ解析(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
- グラフェンデバイスの開発と今後の展望(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)
- C-10-5 プラズモン共鳴型エミッタにおける光励起テラヘルツ波放射(C-10.電子デバイス,一般講演)
- CS-11-7 2次元プラズモン共鳴効果によるテラヘルツ波発生(CS-11.テラヘルツ波技術の進展と実用化への展望,シンポジウム)
- フォトミキシングを利用した100GHz帯ミリ波発振器
- 縦型共振器構造を有するInGaP/InGaAs/GaAsプラズモン共鳴フォトミキサーにおける室温テラヘルツ帯電磁波放射(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
- PLCハイブリッド集積技術及びCMOS-IC技術を用いた156Mb/s ATM-PDS用WDM光トランシーバモジュールの検討
- Si基板上に形成したエピタキシャルグラフェンとその電子デバイス応用(機能ナノデバイス及び関連技術)
- C-4-3 二重格子状ゲート電極を有する高電子移動度トランジスタ構造における二次元プラズモン共鳴を利用したテラヘルツ電磁波の強度変調(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- ナノメートルサイズトランジスタにおける2次元プラズマ発振を利用した放射・検出とそれらのテラヘルツイメージングへの応用(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
- C-14-25 Si基板上に3次元集積した低損失ミリ波コプレーナ伝送線路
- C-2-86 高感度EOセンサを用いた反射型ミリ波イメージング
- 電気光学サンプリングによるミリ波イメージング(2)
- 光で電波を観測する--電波と光のハーモニーが創り出す新しい計測技術
- C-2-65 電気光学サンプリングによるミリ波イメージング
- C-2-109 電気光学サンプリングによる自由空間ミリ波の高感度測定
- C-10-8 HEMT光パルス応答のモンテカルロ解析(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- C-10-13 グラフェンFETを用いたディジタル回路の性能予測(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- PLCハイブリッド集積光モジュールを用いた156 Mb/s バースト信号受信特性の検討
- 単一走行キャリア導波路型フォトダイオード
- 単一走行キャリア導波路型フォトダイオード
- C-12-11 リアルタイム型EOハンディプローブの開発
- p-i-n単層/多層グラフェン構造を用いたテラヘルツ波および赤外線検出器(ナノ機能性2,機能ナノデバイス及び関連技術)
- p-i-n単層/多層グラフェン構造を用いたテラヘルツ波および赤外線検出器(ナノ機能性2,機能ナノデバイス及び関連技術)
- 光電気融合技術による超高速光アイパタン測定
- 10-80 Gb/s光電気融合型パルスパターン発生とその高速電子デバイス評価への応用
- 導波路型p-i-nPD搭載光電気変換プローブの低分散化
- 低温成長InGaAs/InAlAs MQW MSM-PDにより構成された差動型フォトコンダクティブ・アンドゲート
- 110GHz動作マッシュルーム構造導波路型pinフォトダイオード
- YAGレ-ザによる超高速集積回路の外部EOサンプリング (超高速光エレクトロニクスの最前線) -- (超高速光計測・光検出)
- Si基板上に形成したエピタキシャルグラフェンとその電子デバイス応用(機能ナノデバイス及び関連技術)
- C-10-13 多層配線構造を有するGaAs MESFETを用いた分布型セレクタIC
- CI-2-5 グラフェンによるテラヘルツ波源(CI-2.テラヘルツ波源デバイスの現状と展望,依頼シンポジウム,ソサイエティ企画)
- C-12-5 マルチチップモジュール技術を用いた40Gbit/sデータディテクタ
- C-10-7 利得媒質と電場増強効果を用いたテラヘルツ増幅器(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- 単一走行キャリア導波路型フォトダイオード
- 単一走行キャリア導波路型フォトダイオード
- InGaAsチャネルHEMTにおける真性・寄生遅延の解析
- InGaAsチャネルHEMTの寄生ゲート遅延に及ぼすゲート電極構造の影響(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)
- InGaAsチャネルHEMTの寄生ゲート遅延に及ぼすゲート電極構造の影響(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)
- C-10-13 半導体2次元プラズモン回折格子を利用したテラヘルツ電磁波強度変調デバイス(C-10.電子デバイス,一般講演)
- EOハンディプローブによる実装ボード波形計測
- EOハンディプローブによる実装ボード波形計測
- C-10-10 両極性電界効果トランジスタを用いた論理回路の解析(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- C-4-7 二次元共鳴プラズモンを利用したテラヘルツ帯光源デバイス(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- グラフェンデバイスの開発と今後の展望(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)
- C-10-7 新構造InGaP/InGaAs/GaAsプラズモン共鳴型フォトミキサーによる室温テラヘルツ電磁波放射(C-10.電子デバイス,一般講演)
- C-10-9 超周期回折格子型ゲート電極を有するプラズモン共鳴型エミッターの数値解析的検討(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- CS-5-1 ミリ波・テラヘルツ波電子デバイス技術の動向(CS-5.マイクロ波・ミリ波フォトニクスを支えるデバイス・サブシステム技術,シンポジウムセッション)
- C-10-3 プラズモン共鳴型エミッターに及ぼすプラズマ不安定性の影響(C-10. 電子デバイス,一般セッション)
- テラヘルツ波技術の進展と実用化への展望(学生/教養のページ)
- テラヘルツ波領域におけるメタマテリアルの応用
- B-10-64 40Gbit/s TDM送受信プロトタイプを用いた160 Gbit/sWDM伝送実験
- HEMTのテラヘルツ帯プラズマ共鳴に与える寄生ゲートフリンジ容量の影響(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
- InP HEMTによる80 Gbit/sマルチプレクサIC
- 40Gbit/s級光伝送システム用EX-OR/NORIC
- InGaAs/InAlAs/InP HEMTによる80Gbit/s動作の2:1マルチプレクサIC
- InGaAs/InAlAs/InP HEMTによる80Gbit/s動作の2:1マルチプレクサIC
- InGaAs/InAlAs/InP HEMTによる80Gbit/s動作の2:1マルチプレクサIC
- ULTIMATEの高精度タイミング発生・補正技術 (VLSI試験技術--500MHz VLSIテストシステム"ULTIMATE")
- モノリシック集積化フォトニックエミッタによる >100 GHzミリ波の発生
- モノリシック集積化フォトニックエミッタによる >100 GHzミリ波の発生
- C-11-6 グラフェン-チャネルFETを用いた論理回路の解析(C-11.シリコン材料・デバイス,一般セッション)
- HEMT構造2次元プラズモン共鳴型エミッターからのテラヘルツ帯電磁波放射(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
- SCFL型出力バッファをもつ高速共鳴トンネルフリップフロップ回路
- フォトミキシングを利用した100GHz帯ミリ波発振器
- リアルタイム型EOハンディプローブによる平行平板上信号強度分布測定
- 観測用パッドを用いたEOSプロービングのシミュレーションによる検討
- EOサンプリングによるペン型ハイインピーダンスプローブ
- EOSによるハンディ型ハイインピーダンスプローブ
- 光電気融合型超高速パルスパタン発生システムとHEMT分布アンプのオンウェハー大信号評価への応用
- C-10-14 結合線路を用いた超高速AND処理回路
- 進行波型DEMUX : 超高速処理のための新規論理回路の提案
- 進行波型DEMUX : 超高速処理のための新規論理回路の提案
- 進行波型DEMUX : 超高速処理のための新規論理回路の提案
- 進行波型DEMUX : 超高速処理のための新規論理回路の提案
- 進行波型トランジスタの波動伝播特性
- 共鳴トンネルダイオードとHEMTを用いた高速ディジタル回路
- 共鳴トンネルダイオードとHEMTを用いた高速ディジタル回路
- 共鳴トンネルダイオードとHEMTを用いた高速ディジタル回路
- InAlAs/InGaAs HEMTを用いた40 Gbit/s級デイジタルIC
- InAlAs/InGaAs HEMTを用いた40 Gbit/s級デイジタルIC
- InAlAs/InGaAs HEMTを用いた40 Gbit/s級デイジタルIC
- InAlAs/InGaAs HEMTを用いた40 Gbit/s級デイジタルIC
- MWP2001国際会議報告
- MWP2001国際会議報告
- C-12-3 EOSプローバを用いた高密度LSI内高速小振幅波形の観測
- ミリ波フォトニック技術を用いた300GHzネットワークアナライザ
- ミリ波フォトニック技術を用いた300GHzネットワークアナライザ
- C-4-4 無給電素子一体型ダイポールアンテナを用いたAlGaN/GaNプラズモン共鳴テラヘルツデテクタ(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- C-10-2 Si(001)基板上におけるグラフェンFET(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- 共鳴トンネルダイオードと単一走行キャリアフォトダイオードを用いた80Gbit/s光電気融合DEMUXIC
- 「光技術によるマイクロ波・ミリ波信号の発生とプロービング」キーノート
- 「光技術によるマイクロ波・ミリ波信号の発生とプロービング」キーノート
- グラフェンチャネルトランジスタ
- フォトニック技術による集積化ミリ波ネットワークアナライザ
- ULTIMATEのシステム特性 (VLSI試験技術--500MHz VLSIテストシステム"ULTIMATE")
- 光励起グラフェンの非平衡キャリア緩和過程とテラヘルツ帯における反転分布(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)