RF反応性スパッタリングによるZnO薄膜の作成及びアニールの効果
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概要
著者
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島岡 五朗
The University of New South Wales
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伊ケ崎 泰宏
静大電子研
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島岡 五朗
静岡大学電子工学研究所
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伊ケ崎 泰宏
静岡大学電子工学研究所
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清水 安元
静岡大学大学院電子科学研究科
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