伊ケ崎 泰宏 | 静岡大学電子工学研究所

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概要

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関連著者

• 伊ケ崎 泰宏

  静岡大学電子工学研究所

• 伊ケ崎 泰宏

  静大電子研

• 島岡 五朗

  The University of New South Wales

• 島岡 五朗

  静岡大学電子工学研究所

• 清水 安元

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 三橋 広二

  静岡大学電子工学研究所

• 藤原 武

  静岡大学電子科学研究科

• 中村 康夫

  静岡大学電子工学研究所

• 栗田 典明

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 清水 安元

  静岡大学電子工学研究所

• 矢部 勝昌

  北海道工業技術研究所

• 鈴木 正昭

  北海道工業開発試験所

• 山科 俊郎

  北海道大学工学部

• 荒川 富行

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 和田 俊一

  静岡大学電子工学研究所

• 神間 博和

  静岡大学電子工学研究所

• 菅 勝行

  静岡大学工学研究科電子工学専攻

• 石川 美知昭

  静岡大学電子工学研究所

• 荒川 富行

  静岡大学電子工学研究所

• 矢部 勝昌

  北海道工業開発試験所

• 井上 尚実

  静岡大学電子工学研究所

• 筒井 匠司

  静岡大学電子工学研究所

• 三橋 廣二

  静岡大学電子工学研究所

• 小林 浩志

  静岡大学電子工学研究所

• 山科 俊郎

  北海道大学

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著作論文

• 電着初期におけるセレンパッシベーション膜上のIn-Se粒成長
• ZnO:Al透明導電膜の経時変化 (第27回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和61年11月12日〜14日,大阪)
• InSe電着膜の成長 : 基板としての電極材料の影響
• rfマグネトロンスパッタリングによる酸化亜鉛薄膜の成膜速度
• ZnO:Alエピタキシャル薄膜の電気特性の膜厚依存性 (第31回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
• 反応性スパッタリングによるZnO:Al透明導電膜の低温成長
• 立方晶基板上のZnO薄膜のエピタキシ- (第27回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和61年11月12日〜14日,大阪)
• 金属ターゲットを用いたRF反応性スパッタリングによるAlドープZnO薄膜の作製
• 反応性RFスパッタ法によるZnO膜の構造に及ぼす基板バイアス効果(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
• 反応性RFスパッタリングによるZnO薄膜の結晶構造に及ぼす酸素分圧の効果
• RF反応性スパッタリングによるZnO薄膜の作成及びアニールの効果
• RF反応性スパッタリングによるZnO薄膜の成長-2- (第23回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和57年11月,神戸)
• RF反応性スパッタリングによるZnO薄膜の成長 (第23回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和57年11月,神戸)
• 細線複合タ-ゲット法によるTi-Fe系合金膜の作製
• 複合ターゲット法によるTi-Fe系合金膜の製作とその電気抵抗特性
• チタン化合物固溶体膜の電気伝導機構その2 : Ti-N薄膜における負の抵抗温度係数
• Bloch-Gruneisen積分の多項式表現
• チタン化合物固溶体膜の電気伝導機構 : その1Ti-N
• チタニウム蒸着膜の電気特性におよぼす基板温度の影響
• 6a-KH-1 CdS-MnS混晶の光学,磁気特性III
• X線光電子分光法による窒化チタン薄膜の定量分析
• ZnO : Al透明導電膜の経時変化
• 立方晶基板上のZnO薄膜のエピタキシー
• 反応性rfスパッタリングによるZnO : Al薄膜の真空中アニーリング
• RF反応性スパッタリングによるZnO薄膜の成長 (II)
• RF反応性スパッタリングによるZnO薄膜の成長 (I)
• 細線複合ターゲット法によるTi-Fe系合金膜の作製
• 反応性RFスパッタ法によるZnO膜の構造に及ぼす基板バイアス効果(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)

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