27pRE-1 多層構造の高分解能plan-view HAADF STEM像の計算(27pRE X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 2009-03-03

著者

• 渡辺 和人

  都立産技高専

• 渡辺 和人

  東京都立工業高等専門学校

• 橋本 巖

  東理大理

• 大塚 真弘

  東理大理

関連論文

• 21aHS-4 球面収差補正STEM像の結像に及ぼす色収差係数の影響(21aHS X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 19aXC-4 HAADF STEM法を用いたSrTiO_3(100)/PbTiO_3強誘電体薄膜の原子構造組成解析(X線・粒子線(電子線),領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 28pYA-13 高分解能HAADF STEM像に及ぼす非点の影響(28pYA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28pYA-14 Ronchigramを用いたレンズ定数の測定(28pYA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 25pYS-9 低指数入射ronchigramを用いた球面収差係数の精密測定(X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
• 18pTH-9 HAADF STEM像のdeconvolution処理
• 粒界層型半導体SrTiO_3セラミックコンデンサーの電子顕微鏡分析
• B-2 揚力の取り扱いとベルヌーイの原理(分科B:「実験開発」)
• 27aRB-1 In濃度に依存したIndium-zinc oxide透明導電薄膜の構造解析(27aRB 格子欠陥・ナノ構造(半導体・シミュレーション),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21pWA-2 Co_3O_4におけるHAADF STEM像の像形成について(21pWA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21pWA-1 Layer-by-layer法を用いた非整合多層膜の動力学計算II(21pWA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 23aTG-11 スプレー法を用いた遷移金属内包カーボンナノオニオンの作成とその構造解析(ナノチューブ・グラフェンにおける欠陥,領域7,領域10合同講演,領域7,分子性固体・有機導体)
• 26aYF-11 a-Zn_7Sb_2O_の(110)面に形成される双晶境界の精密構造解析(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 26aYF-12 Layer-by-Layer法を用いた非整合多層膜の動力学計算(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 23pTC-2 低指数入射CBED像を用いたSiGe中の湾曲測定(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 23pTC-4 Absorptive form factorの高速計算(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 23pTC-5 高分解能共焦点STEM像の結像理論とその可能性(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 24pTA-5 Zn_7Sb_2O_spinel構造体に生じるboundaryの構造解析(格子欠陥・ナノ構造(転位・機械的性質),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 20aXB-4 Indium-tin-oxide透明導電膜中のSn濃度に依存した構造解析(格子欠陥・ナノ構造(転位・力学特性),領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 20axB-5 Zn_7Sb_2O_ spinel構造体に生じるboundaryの構造解析(格子欠陥・ナノ構造(転位・力学特性),領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 24aYK-6 HAADF STEM像に及ぼす分解能関数の影響(24aYK X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 25aYK-13 鉄微粒子を内包したカーボンナノオニオンの構造解析(25aYK 格子欠陥・ナノ構造(微粒子・ナノ構造・炭素物質),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 24aZD-11 電子顕微鏡を用いたa-plane GaN/InGaNの極性に関する構造評価(24aZD 領域10,領域4合同招待講演,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28pYA-12 非整合系多層膜の動力学計算(28pYA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28pYA-15 HAADF STEM像のDebye-Waller因子依存性とその精密測定II(28pYA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21aYM-11 低指数入射HOLZ線の定式化と歪測定への可能性(X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21aYM-7 Layer-by-layer法を用いたHAADF STEM計算の改良(X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 20aYN-6 カーボンオニオンに内包されたFeの構造解析(格子欠陥・ナノ構造(分光法・炭素系物質),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 25pYS-5 Kr-doped Geの再結晶化領域の構造観察(X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
• 25pYS-3 収束電子線回折法によるSOI wafer中の歪分布の精密測定(X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
• 13pTJ-12 Si の再結晶化領域に形成される lamellar microtwin の原子構造(電子線, 領域 10)
• 13pTJ-6 収束電子線回折法を用いた Si/SiO_2 酸化膜の歪分布の精密測定(電子線, 領域 10)
• 15aTJ-4 HF-CVD diamond 結晶粒間に形成されるナノ closed-shell carbon の観察(格子欠陥・ナノ構造, 領域 10)
• 28pXM-4 再結晶化したSi薄膜の精密構造解析(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 13pTJ-8 高分解能電子顕微鏡像及び HAADF STEM 像による Si/SiO_2 界面の構造決定(電子線, 領域 10)
• 28pXM-6 HAADF STEM法によるSi/SiO_2界面の構造解析(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 28aXM-4 高分解能small angle BF STEM及びlarge angle BF STEM像の形成機構(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 26aYK-6 高分解能HAADF STEM像に及ぼすnon-local吸収ポテンシャルの影響(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 27pRE-1 多層構造の高分解能plan-view HAADF STEM像の計算(27pRE X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 13pTJ-9 HAADF STEM 法による MQW InGaN/GaN 中の ordering と phase separation の解析(電子線, 領域 10)
• 22pXB-11 Kr のイオン打ち込みに伴う Si の構造変化 II
• 22pXB-2 CBED, HAADF- 及び BF-STEM の動力学計算の高速化
• 22pXB-1 STEM 像の真空間でのノイズ除去
• 24aZL-6 RHEED rocking curveのpeakの起源 II
• 30a-ZN-3 Kr照射したAl中のKrバブルの焼鈍効果
• 27p-ZN-6 低温加工したアルミニウムのステージIIの回復におよぼす不純物原子の影響 II
• 27p-ZN-5 低温加工したAl希薄合金の回復ステージIIの焼純時間依存
• 19aXC-5 高分解能HAADF STEM像の形成機構(X線・粒子線(電子線),領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• STEM像の解釈(2)
• STEM像の解釈(1)
• 領域10「最新電子顕微鏡法を使った物性研究のいぶき」(2007年春季大会シンポジウムの報告)
• 24aYK-5 3次元Bloch波を用いたRHEED計算法の開発(24aYK X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28aXM-5 欠陥を含んだ高分解能STEM像計算の高速化(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 30pXD-6 高分解能 BF STEM 像の装置定数依存性
• 高分解能HAADF-STEMの結像理論
• 高分解能 HAADF STEM とベーテ法によるシミュレーション
• 新しい多波動力学の計算手法
• 21aYM-6 HAADF STEM像のDebye-Waller因子依存性とその精密測定(X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 25pYS-2 HAADF STEMおよびEELSを用いたhigh-k膜の構造および組成解析(X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
• 30pXD-9 Kr のイオン打ち込みに伴う Si の構造変化
• 30pXD-8 界面を含む HAADF STEM 像の画像処理
• 30pXD-7 HAADF STEM 像による Si/SiO_2 の構造解析 II
• 18pTH-8 新しいHAADF STEM像計算のconvolution表示II
• 22pXB-4 Structural and compositional analysis of planer faults in XO-doped SrTiO_3 (X=Sr, Ca, Ba)
• 18pTH-7 HAADF STEM像はconvolution表示できるのか?
• 3p-M-11 転位ループの消滅におよぼす転位間相互作用の影響
• 3a-M-10 急冷α-黄銅中の二次欠陥周辺の合金組成
• 28aXM-9 収束電子線回折法を用いた局所歪みの測定方法II(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 22aXB-4 収束電子線回折法を用いた局所歪みの測定方法
• 21aXA-11 ZnO amorphous 中に含まれる ZnO 多重双晶微粒子の解析
• 28pYG-1 Bi_2O_3 を添加した ZnO の界面構造
• 27p-ZN-4 Cu_3Au中の逆位相境界近傍でのボイドの消滅 II
• 24aY-5 FT-IRを用いたCz-Si中の熱ドナーの観察
• 23aY-2 MoおよびSi中のKrバブルのTEM観察
• 27a-ZB-6 高分解能電子顕微鏡像の多波動力学計算 II
• 3p-NJ-15 急冷β-黄銅の電気抵抗の回復
• 3p-NJ-14 β-黄銅中の二次欠陥の性状におよぼす急冷温度の影響
• 2p GN-1 α-黄銅単結晶の成長軸の亜鉛濃度依存
• 4p-KM-7 急冷α-黄銅中の二次欠陥と転位の相互作用
• 28pTJ-1 BaTiO_3の構造と欠陥評価(28pTJ 格子欠陥・ナノ構造(金属・転位・点欠陥,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 27pTJ-18 In濃度に依存したIndium-zinc oxide透明導電薄膜の構造解析(27pTJ 格子欠陥・ナノ構造(半導体),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 27pTN-11 高分解能HAADF STEM像による定量解析における熱散漫散乱の非局在効果(27pTN X線・粒子線(陽電子・電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 22pGQ-6 チタン酸バリウムの構造観察(22pGQ 格子欠陥・ナノ構造(半導体・誘電体),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 21aJA-7 HAADF STEM像計算における非局所吸収ポテンシャルの重要性(21aJA X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 21aJA-8 収束電子線が励起する結晶中の波動場における色収差係数の影響(21aJA X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 27aCL-2 高角度明視野走査透過電子顕微鏡像の検出器位置の精密測定とその影響(27aCL X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 27aCL-1 高分解能明視野STEM像のBloch波による解析(27aCL X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 21aAG-5 円板状明視野検出器による軽元素検出STEM結像法(21aAG X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 21aAG-3 Bloch波法によるFrozen lattice計算とその応用(21aAG X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 7aSK-11 Si中にイオン打ち込みしたKr原子の自己結晶化II(格子欠陥・ナノ構造,領域10)
• 26pKA-5 アルミナ微粒子に対するHF-CVD反応の温度効果(格子欠陥・ナノ構造(半導体),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク