窒素添加タングステン酸化物薄膜の光学的特性
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概要
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Tungsten oxide thin films doped with nitrogen were prepared by reactive rf magnetron sputtering in various oxygen-nitrogen-argon mixtures. The thin films were analyzed by RBS, XRD and XPS. Absorption spectra of the thin films in IR-VUV range and refractive indexes in VIS-UV range were measured. Remarkable doping effects of nitrogen were observed from XPS and optical measurements. It was found that the change of these optical properties originated in an occupied energy level above the valence band appeared by doped nitrogen.
- 明治大学の論文
- 2006-01-13
著者
-
三浦 登
明治大学理工学部電子通信工学科
-
中川 晃一
明治大学理工学部
-
松本 節子
明治大学理工学部
-
松本 皓永
Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University
-
中川 晃一
Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University
-
三浦 登
Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University
-
中野 鐐太郎
Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University
-
松本 節子
Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University
-
松本 皓永
明治大学理工学部
-
松本 皓永
Department Of Electronics & Communications School Of Science And Technology Meiji University
-
中野 鐐太郎
明治大学理工学部
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