反応性スパッタリングによるPd添加WO_3薄膜のエレクトロクロミズム特性
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概要
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Palladium doped tungsten oxide thin films were prepared by RF reactive sputtering in a mixture of argon and oxygen at room temperature. XRD patterns indicated that these films were amorphous. SEM imaging indicated a smaller grain size of palladium doped thin film compared with that of undoped tungsten oxide thin film. With electrochromism, palladium doped tungsten oxide exhibited a reverse optical modulation with respect to the applied potential.
- 2010-03-20
著者
-
三浦 登
明治大学理工学部電子通信工学科
-
松本 皓永
明治大学理工学部電子通信工学科
-
中野 鐐太郎
明治大学理工学部電子通信工学科
-
籔本 泰平
明治大学理工学部
-
岩井 祐貴
明治大学理工学部
-
松本 節子
明治大学理工学部
-
三浦 登
明治大学理工学部
-
松本 皓永
明治大学理工学部
-
中野 鐐太郎
明治大学理工学部
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