高周波スパッタリング法によるBaAl_2S_4:Eu薄膜の作製(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
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概要
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高周波スパッタリング法により無機エレクトロルミネッセンスディスプレイの根幹材料になっているBaAl_2S_4 : Euの薄膜作製を試みた。基板温度、熱処理温度などの成膜条件を検討した。作製した薄膜からは、ピーク波長485nmの青緑色フォトルミネッセンスが得られた。X線回折の測定において、BaAl_2S_4の(311)面から回折信号が得られたが、結晶性は低かった。また、X線マイクロアナライザを用いた組成分析より、組成の異なる薄膜が形成されていることがわかった。
- 2005-01-21
著者
-
三浦 登
明治大学理工学部電子通信工学科
-
松本 皓永
明治大学理工学部電子通信工学科
-
中野 鐐太郎
明治大学理工学部電子通信工学科
-
三浦 登
明治大学理工学部
-
松本 皓永
明治大学理工学部
-
中野 鐐太郎
明治大学理工学部
-
南雲 健介
明治大学 理工学部 電子通信工学科
-
柳田 清一郎
明治大学理工学部電子通信工学科
-
南雲 健介
明治大学理工学部電子通信工学科
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