中川 晃一 | 明治大学理工学部

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概要

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• 同名の論文著者
• 明治大学理工学部の論文著者

関連著者

• 中川 晃一

  明治大学理工学部

• 松本 節子

  明治大学理工学部

• 松本 皓永

  明治大学理工学部

• 三浦 登

  明治大学理工学部電子通信工学科

• 中野 鐐太郎

  明治大学理工学部

• 岩井 祐貴

  明治大学理工学部

• 松本 皓永

  明治大学理工学部電子通信工学科

• 中野 鐐太郎

  明治大学理工学部電子通信工学科

• 松本 皓永

  Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University

• 中川 晃一

  Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University

• 松本 節子

  Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University

• 三浦 登

  明治大学理工学部

• 松本 皓永

  Department Of Electronics & Communications School Of Science And Technology Meiji University

• 三浦 登

  Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University

• 中野 鐐太郎

  Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University

• 津田 俊幸

  Department Of Electronics & Communication School Of Science & Technology Meiji University

• 岩井 祐貴

  Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University

• 津田 俊幸

  Department of Electronics & Communication School of Science & Technology, Meiji University

• 水沼 達郎

  Department of Physics, School of Science and Technology, Meiji University

• 蔀洋 司

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

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著作論文

• 白金パラジウム酸化物薄膜の電気特性と光学特性の関係
• WO_3-Bi_2O_3混合薄膜の作製と評価
• Nドープ酸化タングステン薄膜の作製と評価
• 白金酸化物薄膜の光学的特性と電子状態
• 偏光紫外線照射されたポリイミド薄膜(PMDA/ODA)の光学的性質
• 窒素添加タングステン酸化物薄膜の光学的特性
• RFスパッタリング法によるSi酸化物薄膜作製時における酸素ガス濃度効果
• 反応性スパッタリング法により作製されたパラジウム酸化物薄膜の光学的特性

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