5-11 CCDイメージセンサにおける水平駆動電圧低減の検討
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概要
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To realize low driving voltage in H-CCD, optimum conditions of barrier regions, such as edge positions of boron implanted areas and doses of boron implantation, are researched by using potential simulations. Simulated results indicate that implanting boron ions not only under second electrode but also under electrode gaps helps suppress potential dips under the gaps and strengthen transfer fields. Under this condition, H-CCD can be driven by the driving voltage under 2V.
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1995-07-26
著者
-
中野 隆
Nec シリコンシステム研究所
-
寺西 信一
NECシリコンシステム研究所
-
武藤 信彦
松下電子工業株式会社ccd事業部
-
武藤 信彦
パナソニック株式会社 セミコンダクター社
-
山田 徹
日本電気(株)マルチメディア研究所
-
武藤 信彦
日本電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
寺西 信一
日本電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
武藤 信彦
日本電気株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
-
川上 幸也
Nec シリコンシステム研究所
-
山田 徹
Nec シリコンシステム研究所
-
川上 幸也
日本電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
中野 隆
日本電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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寺西 信一
松下電子工業株式会社ccd事業部
-
寺西 信一
松下電子工業
-
武藤 信彦
松下電子工業
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