Intra-Leve Mix-and-Match Lithography Process for Fabricating Sub-100-nm Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Devices using the JBX-9300FS Point-Electron-Beam System

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 2000-12-30

著者

• Ochiai Yukinori

  System Devices And Fundamental Research Nec Corporation

• OGURA Takashi

  System Devices Research Laboratories, NEC Corporation

• Arai K

  Electrotechnical Laboratory

• Ueki Makoto

  System Devices And Fundamental Research Nec Corporation

• Mogami Tohru

  System Devices And Fundamental Research Nec Corporation

• NARIHIRO Mitsuru

  System Devices Research Laboratories, NEC Corporation

• ARAI Kohichi

  System Devices Research Laboratories, NEC Corporation

• Narihiro Mitsuru

  System Devices And Fundamental Research Nec Corporation

• WAKABAYASHI Hitoshi

  System Devices and Fundamental Research, NEC Corporation

• Wakabayashi Hitoshi

  System Devices And Fundamental Research Nec Corporation

• Ogura Takashi

  System Devices And Fundamental Research Nec Corporation

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