10-nm-Scale Pattern Delineation Using Calixarene Electron Beam Resist for Complementary Metal Oxide Semiconductor Gate Etching

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概要

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• 2005-07-30

著者

• Ochiai Yukinori

  System Devices And Fundamental Research Nec Corporation

• Arai K

  Electrotechnical Laboratory

• Ishida Masahiko

  Fundamental And Environmental Research Laboratories Nec Corporation

• NARIHIRO Mitsuru

  System Devices Research Laboratories, NEC Corporation

• ARAI Kohichi

  System Devices Research Laboratories, NEC Corporation

• NATSUKA Yasutaka

  Tsukuba Laboratory, Tokuyama Corporation

• Natsuka Yasutaka

  Tsukuba Laboratory Tokuyama Corporation

• Narihiro Mitsuru

  System Devices And Fundamental Research Nec Corporation

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