21aGS-12 グラフェン薄膜における低温磁気抵抗ゆらぎの解析(21aGS 領域7,領域4合同 グラフェン,領域7(分子性固体・有機導体))
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概要
- 論文の詳細を見る
- 2010-03-01
著者
-
青木 伸之
千葉大院融合
-
落合 勇一
千葉大院融合
-
落合 勇一
千葉大学融合
-
落合 勇一
千葉大工
-
落合 勇一
千葉大自然
-
本岡 正太郎
千葉大院融合
-
樋口 真也
千葉大工
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アカラム M.
千葉大工
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青木 伸之
千葉大学融合
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千葉大学融合
-
J.p. バード
理研
-
Ochiai Yukinori
Crest-jst
-
Ochiai Yukinori
Faculty Of Engineering Science Osaka University
-
Ochiai Yukinori
System Devices And Fundamental Research Nec Corporation
-
OCHIAI Yuichi
Department of Electronics and Mechanical Engineering, Chiba University
-
フェリー D.K.
アリゾナ州大
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