アカラム M. | 千葉大工
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概要
関連著者
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青木 伸之
千葉大院融合
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落合 勇一
千葉大院融合
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落合 勇一
千葉大工
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落合 勇一
千葉大自然
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アカラム M.
千葉大工
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バード J.P.
バッファロー大
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青木 伸之
千葉大学融合
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バード J.P.
筑波大物質工
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フェリー D.
Zrizona州立大ナノ研
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バード J.
千葉大学融合
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J.p. バード
理研
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Ochiai Yukinori
Crest-jst
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Ochiai Yukinori
Faculty Of Engineering Science Osaka University
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Ochiai Yukinori
System Devices And Fundamental Research Nec Corporation
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OCHIAI Yuichi
Department of Electronics and Mechanical Engineering, Chiba University
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本岡 正太郎
千葉大院融合
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阿部 拓斗
千葉大工
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アカラム M.
千葉大院融合
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バード J.
バッファロー大
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フェリー D.
アリゾナ州大
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落合 勇一
千葉大工:千葉大
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落合 勇一
千葉大学融合
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フェリー D.
アリゾナ州立大
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樋口 真也
千葉大工
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フェリー D.K.
アリゾナ州立大
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阿部 拓斗
千葉大院融合
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磯 優平
千葉大工
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フェリー D.K.
アリゾナ州大
著作論文
- 21aGS-12 グラフェン薄膜における低温磁気抵抗ゆらぎの解析(21aGS 領域7,領域4合同 グラフェン,領域7(分子性固体・有機導体))
- 23aXA-12 グラフェンにおける伝導度ゆらぎの解析とバックゲート依存性(23aXA 量子細線・グラフェン,領域4(半導体メゾスコピック系・局在))
- 25aHD-2 グラフェンデバイスにおける磁気伝導とバックゲート依存性(25aHD グラフェン・量子細線,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 22aTL-6 グラフェンデバイスにおける磁気伝導とバックゲート依存性II(22aTL グラフェン/ディラック電子系,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))