Automatic Dose Optimization System for Resist Cross-Sectional Profile in a Electron Beam Lithography
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2000-12-30
著者
-
平井 義彦
大阪府立大学大学院工学研究科
-
菊田 久雄
大阪府大
-
菊田 久雄
大阪府立大学工学研究科
-
Okano M
Nalux Co. Ltd.
-
KIKUTA Hisao
Department of Mechanical Systems Engineering, College of Engineering, Osaka Prefecture Universit
-
HIRAI Yoshihiko
Department of Mechanical Systems Engineering, College of Engineering, Osaka Prefecture Universit
-
OKANO Masato
Osaka Science and Technology Center
-
YOTSUYA Tsutomu
Osaka Science and Technology Center
-
YAMAMOTO Kazuya
Nalux Co. Ltd.
-
Yamamoto K
Kobayasi Institute Of Physical Research
-
Yotsuya Tsutomu
Technology Research Institute Of Osaka Prefecture
-
平井 義彦
大阪府立大学 大学院工学研究科 電気・情報系専攻
-
Yamamoto K
Storage Media Systems Development Center Matsushita Elec. Ind. Co. Ltd.
-
Hirai Y
College Of Engineering Graduate School Of Osaka Prefecture University
-
Kikuta Hisao
Department Of Mechanical Engineering College Of Engineering University Of Osaka Prefecture
-
Hirai Yoshihiko
Department Of Bioscience And Biotechnology Faculty Of Agriculture Shinshu University
-
Yotsuya Tsutomu
Osaka Prefectural Industrial Research Institute, Enokojima, Nishiku, Osaka 550
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