403 ナノインプリント法による3次元多層構造の作製(GS-16 精密計測・精密加工)
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概要
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Three dimensional micro-nano structures have been achieved to fabricate by nano imprint lithography and advanced reversal imprint technology using thermal polymer. Fine grating structures is fabricated by conventional imprint lithography on a polymer surface. A spin coated thin polymer film on mold plate is pressed onto the grating structure and the polymer is transferred to the underneath structure. Nano tunnel structure and cross grating structure are successful ly demonstrated using this advanced technology.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2004-03-17
著者
-
大江 秀明
阪府大
-
森松 賢順
阪府大
-
高木 啓行
阪府大
-
平井 義彦
阪府大
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平井 義彦
大阪府立大学大学院工学研究科
-
平井 義彦
大阪府立大学大学院工学研究科電子物理工学分野
-
平井 義彦
大阪府立大学 大学院工学研究科 電気・情報系専攻
-
Hirai Y
Graduate School Of Engineering Osaka Prefecture University
-
Hirai Y
College Of Engineering Graduate School Of Osaka Prefecture University
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