回折光学素子作製のための電子ビーム近接効果補正法の有効性と限界
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概要
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- 応用物理学会分科会日本光学会の論文
- 2000-09-10
著者
-
菊田 久雄
大阪府立大学大学院工学研究科
-
四谷 任
(財)大阪科学技術センター
-
平井 義彦
大阪府立大学大学院工学研究科
-
四谷 任
大阪科学技術センター
-
菊田 久雄
大阪府大
-
菊田 久雄
大阪府立大学工学研究科
-
岡野 正登
(財)大阪科学技術センター先端光ファクトリー
-
山本 和也
ナルックス(株)開発部
-
岡野 正登
ナルックス株式会社
-
岡野 正登
(財)大阪科学技術センター
-
菊田 久雄
大阪府立大学
-
平井 義彦
大阪府立大
-
平井 義彦
大阪府立大学 大学院工学研究科 電気・情報系専攻
-
Hirai Y
College Of Engineering Graduate School Of Osaka Prefecture University
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