シリカガラス上の2次元無反射微細構造
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概要
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A two-dimensional microstructure with low reflectance was fabricated on the surface of an SiO_2 plate by the precise regulation of its shape and surface morphology. A periodically dotted mask pattern of a positive resist was formed on SiO_2 by a two-beam interference method using a He-Cd laser with a wavelength of 325 nm. The substrate was rotated by 90° between the first and second irradiation steps. The microstructure of SiO_2 was etched using an electron cyclotron resonance plasma. The reflection loss was effectively minimized by overcoating an SiO_2 thin film on the microstructure followed by chemical etching in an HF solution. Steady fabrication of subwavelength structures (SWSs) having a reflectance less than 0.1% was possible by using these surface treatment methods.
- 2003-01-01
著者
-
菊田 久雄
大阪府立大学大学院工学研究科
-
西井 準治
(独)産業技術総合研究所
-
西井 準治
産業技術総合研
-
金高 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
川本 泰
(株)モリテックス
-
水谷 彰夫
大阪府立大学工学部機械システム工学科
-
菊田 久雄
大阪府立大学工学部機械システム工学科
-
西井 準治
産業技術総合研究所
-
金高 健二
産業技術総合研究所
-
菊田 久雄
大阪府立大学
-
水谷 彰夫
大阪府立大学
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