西井 準治 | 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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西井 準治
産業技術総合研究所
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西井 準治
(独)産業技術総合研究所
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西井 準治
産業技術総合研
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西井 準治
産業技術総合研究所 光技術研究部門
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西井 準治
北海道大学電子科学研究所
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西井 準治
産業技術総合研究所光技術研究部門
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西井 準治
大阪工業技術研究所
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金高 健二
(独)産業技術総合研究所
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裏 升吾
京都工芸繊維大学
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松村 晶
大阪工業大学大学院工学研究科電気電子工学専攻
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坂本 明彦
日本電気硝子株式会社
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西 壽巳
大阪工業大学大学院工学研究科電気電子工学専攻
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西 壽巳
大阪工業大学
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西尾 謙三
京都工芸繊維大学工芸学部
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粟辻 安浩
京都工芸繊維大
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粟津 英行
京都工芸繊維大学
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粟辻 安浩
京都工芸繊維大学
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Ura Shogo
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University
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裏 登吾
大阪大学工学部電子工学科
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西尾 謙三
京都工芸繊維大学
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和田 正紀
日本電気硝子株式会社
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平尾 一之
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
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平尾 一之
科学技術振興機構フォトンクラフトプロジェクト:京都大学
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北村 直之
産業技術総合研
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大家 和晃
(社)ニューガラスフォーラム ナノガラス大阪研究室
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中澤 遠洋
日本板硝子(株)技術研究所伊丹
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金高 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
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川本 泰
(株)モリテックス
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福味 幸平
産業技術総合研
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竹内 宏和
日本電気硝子株式会社 電子部品事業部
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竹内 宏和
日本電気硝子株式会社
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竹内 宏和
日本電気硝子(株)
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山本 茂
日本電気硝子(株)
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浅野 秀樹
日本電気硝子株式会社
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佐藤 史雄
日本電気硝子株式会社 技術部光材料グループ
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金高 健二
産業技術総合研究所
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佐藤 史雄
日本電気硝子株式会社
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平尾 一之
科学技術振興機構
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山本 茂
日本電気硝子
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平尾 一之
京大院工
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菊田 久雄
大阪府立大学大学院工学研究科
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山口 智史
京都工芸繊維大学
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平尾 一之
京都大学大学院 工学研究科
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田中 康弘
松下電器産業株式会社 Avc商品開発センター
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西山 宏昭
大阪大学大学院工学研究科
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中澤 達洋
日本板硝子(株)技術研究所 関西研究センター
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橘高 重雄
日本板硝子(株)技術研究所伊丹
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常友 啓司
日本板硝子(株)技術研究所伊丹
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金高 健二
産総研関西センター
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西井 準治
産総研関西センター
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水谷 彰夫
大阪府立大学工学部機械システム工学科
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金高 健二
大阪工業技術研究所光機能材料部
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山田 和宏
松下電器産業株式会社パナソニックAVCネットワークス社
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森 登史晴
コニカミノルタオプト株式会社生産技術センター
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笠 晴也
産業技術総合研究所光技術研究部門
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菊田 久雄
大阪府立大学工学部機械システム工学科
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常岡 貴士
日本電気硝子株式会社
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山口 智史
京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科
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永金 知浩
ニューガラスフォーラム
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姫井 裕助
ニューガラスフォーラム
-
永金 知浩
科学技術振興機構フォトンクラフトプロジェクト
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姫井 裕助
日本電気硝子株式会社
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菊田 久雄
大阪府立大学
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西山 宏昭
大阪大学大学院工学研究科生産科学専攻
-
橘高 重雄
日本板硝子(株)技術研究所
-
水谷 彰夫
大阪府立大学
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田中 康弘
パナソニック(株)AVCデバイス開発センター
-
波多野 卓史
コニカミノルタオプト(株)生産技術センター
-
田中 康弘
松下電器産業株式会社avcデバイス開発センター
-
田中 康弘
松下電器産業 Avc開セ
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田中 康弘
パナソニック株式会社avcネットワークス社技術統括センター
-
田中 康弘
パナソニック(株) Avcデバイス開発センター
著作論文
- 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- ガラスインプリント法による微細構造形成技術(微細構造による光機能性界面の創出)
- 微細周期構造による回折現象を利用した光導波路デバイス
- シリカガラス上の2次元無反射微細構造
- ガラス表面のサブ波長周期構造による広帯域低反射化 (特集 ガラス表面の高機能化)
- 高強度プラズモン共鳴場創製のための周期構造とその応用 (特集 プラズモニクスの新展開)
- 微細構造の創製と光学素子への応用 (特集 急成長する光化学の最前線)
- チャネル光導波路を用いたボード内チップ間波長多重光配線の提案(光・電気複合実装モジュール技術,高性能電子機器を支える次世代高密度実装技術と実装材料技術論文)
- 深溝回折格子を埋め込んだ導波路型波長分離素子の試作(光波センシング,光波制御,検出,光計測,ニュロ,一般)
- 技術トピック サブ波長周期構造による広帯域・広視野角無反射化
- フォトニクスガラス材料の新規創製プロセスと物性評価 (特集 実用化が期待される産官共同の材料技術開発)
- 酸化物ガラスの光誘起屈折率変化
- 光ファイバー回折格子の最近の研究動向 (特集 「機能ガラス材料」)
- 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製
- C-3-46 融着ファイバスタブを用いたコネクタ型ファイバ・ファブリ・ペロ・エタロン(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 低膨張結晶化ガラスで被覆したシリカガラス光ファイバーの機械的及び光学特性
- 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- ホットバキューム法による多成分ガラスフォトニッククリスタルロッドの作製
- C-3-95 多成分ガラスを用いた二次元フォトニッククリスタルロッドの試作
- 高圧結晶化を行ったLi_2O-Al_2O_3-SiO_2系結晶化ガラスの光学特性
- ガラスインプリント法によるサブ波長光学素子の形成
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティング
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティングの提案と特性評価
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティングの提案と特性評価
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティングの提案と特性評価
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティングの提案と特性評価
- 超高圧とレーザー加熱を用いた微細加工技術
- 酸化物ガラス中に形成された新たな光機能(第58回日本セラミックス協会学術賞受賞研究総説)