金高 健二 | 産業技術総合研究所

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概要

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• 産業技術総合研究所の論文著者

関連著者

• 金高 健二

  産業技術総合研究所

• 河島 整

  産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 河島 整

  産業技術総合研究所

• 河島 整

  産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター

• 津田 裕之

  慶應義塾大学

• 金高 健二

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 河島 整

  電子技術総合研究所

• 河島 整

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 庄司 雄哉

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 挾間 壽文

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 挾間 寿文

  産業技術総合研究所

• 津田 裕之

  慶應義塾大学大学院

• 反本 啓介

  慶應義塾大学

• 庄司 雄哉

  産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター

• 石川 浩

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 伊熊 雄一郎

  慶應義塾大学大学院理工学研究科

• 伊熊 雄一郎

  慶應義塾大学大学院

• 石川 浩

  産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター

• 伊熊 雄一郎

  慶應義塾大学大学院理工学研究科総合デザイン工学専攻

• 石川 浩

  (独)産業技術総合研究所・ネットワークフォトニクス研究センター

• 挾間 壽文

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 上塚 尚登

  日立電線(株)オプトロシステム研究所

• 上塚 尚登

  産業技術総合研究所

• 森 雅彦

  産業技術総合研究所 光技術研究部門

• 庄司 雄哉

  産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 津田 裕之

  慶應義塾大学大学院理工学研究科

• 石川 浩

  産業技術総合研 ネットワークフォトニクス研究セ

• 須田 悟史

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 森 雅彦

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 挾間 壽文

  産業技術総合研究所

• 田中 大輝

  慶應義塾大学大学院理工学研究科

• 金高 健二

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 田中 大輝

  慶應義塾大学

• 河島 整

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 金高 健二

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 森 雅彦

  産業技術総合研究所

• 河島 整

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 金高 健二

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 桑原 正史

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 王 暁民

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 豊崎 達也

  慶應義塾大学大学院理工学研究科

• 石川 浩

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 森 雅彦

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 上塚 尚登

  日立電線株式会社

• 金高 健二

  (独)産業技術総合研究所

• 榊原 陽一

  産業技術総合研究所

• 榊原 陽一

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 王 暁民

  産業技術総合研究所ナノ電子デバイス研究センター

• 須田 悟史

  産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター

• 桑原 正史

  産業技術総合研究所

• 須田 悟史

  産業技術総合研究所

• 森 雅彦

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 挾間 壽文

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 石川 浩

  産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 斎木 敏治

  慶應義塾大学理工学部電子工学科

• 上塚 尚登

  日立電線(株)

• 岡野 誠

  産業技術総合研究所 光技術研究部門

• 亀井 利浩

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 斎木 敏治

  慶應義塾大学 理工学部電子工学科

• 斎木 敏治

  慶應義塾大学大学院

• 亀井 利浩

  産業技術総合研究所マイクロシステム研究センター

• 斎木 敏治

  慶應義塾大学

• 榊原 陽一

  (独)産業技術総合研究所

• 岡野 誠

  産業技術総合研究所

• 並木 周

  古河電気工業株式会社ファイテルフォトニクス研究所:(現)(独)産業技術総合研究所光技術研究部門

• 糸賀 恵美子

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 金高 健二

  (独)産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 西井 準治

  (独)産業技術総合研究所

• 西井 準治

  産業技術総合研

• 並木 周

  (独)産業技術総合研究所

• 須田 悟史

  (独)産業技術総合研究所・ネットワークフォトニクス研究センター

• 庄司 雄哉

  (独)産業技術総合研究所・ネットワークフォトニクス研究センター

• 河島 整

  (独)産業技術総合研究所・ネットワークフォトニクス研究センター

• 西井 準治

  産業技術総合研究所

• 須田 悟史

  産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 並木 周

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 須田 悟史

  (独)産業技術総合研究所

• 河島 整

  (独)産業技術総合研究所

• 並木 周

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 菊田 久雄

  大阪府立大学大学院工学研究科

• 佐藤 了平

  大阪大学先端科学イノベーションセンター

• 岩田 剛治

  大阪大学先端科学イノベーションセンター

• 裏 升吾

  京都工芸繊維大学

• 佐藤 了平

  大阪大学・先端科学イノベーションセンター

• 岩田 剛治

  大阪大学・先端科学イノベーションセンター

• 岩田 剛冶

  大阪大学大学院工学研究科生産科学専攻

• 岩田 剛治

  大阪大学大学院工学研究科生産科学専攻

• 西井 準治

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 金高 健二

  産総研関西センター

• 川本 泰

  (株)モリテックス

• 水谷 彰夫

  大阪府立大学工学部機械システム工学科

• 谷澤 健

  (独)産業技術総合研究所

• 来見田 淳也

  (独)産業技術総合研究所

• 挾間 壽文

  (独)産業技術総合研究所

• 石川 浩

  (独)産業技術総合研究所

• 津田 裕之

  慶應義塾大学理工学研究科

• 桑原 正史

  独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター

• 並木 周

  (独)産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 小笠原 剛

  (独)産業技術総合研究所・ネットワークフォトニクス研究センター

• 山本 茂

  日本電気硝子(株)

• 菊田 久雄

  大阪府立大学工学部機械システム工学科

• 上塚 尚登

  日立電線 (株) オプトロシステム研究所

• 坂本 明彦

  日本電気硝子株式会社

• 佐藤 史雄

  日本電気硝子株式会社 技術部光材料グループ

• 黒田 晃弘

  大阪大学大学院工学研究科

• 横田 耕一

  大阪大学大学院工学研究科

• 中川 浩一

  大阪大学大学院工学研究科

• 古屋 克己

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 横田 耕一

  大阪大学大学院工学研究科:(現)株式会社富士通研究所

• 石川 浩

  産総研 超高速光信号処理デバイス研究ラボ

• 挾間 壽文

  産総研 超高速光信号処理デバイス研究ラボ

• 佐藤 史雄

  日本電気硝子株式会社

• 反本 啓介

  慶大理工

• 伊熊 雄一郎

  慶大理工

• 津田 裕之

  慶大理工

• 河島 整

  産総研

• 森 雅彦

  産総研

• 菊田 久雄

  大阪府立大学

• 黒田 晃弘

  大阪大学大学院工学研究科:(現)三洋電機株式会社

• 水谷 彰夫

  大阪府立大学

• 金高 健二

  独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門ハイブリッドフォトニクスグループ

• 金 相憲

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• Guangwei Cong

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 挟間 壽文

  独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 谷澤 健

  産業技術総合研究所

• 来見田 淳也

  産業技術総合研究所

• 亀井 利浩

  (独)産業技術総合研究所

• 森 雅彦

  (独)産業技術総合研究所

• 王 暁民

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 上塚 尚登

  日立電線

• 山本 茂

  日本電気硝子

• 金高 健二

  産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター

• 小笠原 剛

  (独)産業技術総合研究所

• 並木 周

  独立行政法人　産業技術総合研究所

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著作論文

• アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• シリカガラス上の2次元無反射微細構造
• Si導波路と相変化材料を用いた小型の自己保持型2x2光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• 帯域可変型波長選択スイッチの開発 : モノリシック集積AWGのスイッチングデバイスへの応用(コア・メトロシステム,フォトニックネットワーク・システム,光ネットワーク運用管理,光ネットワーク設計,トラヒックエンジニアリング,シグナリング,GMPLS,ドメイン間経路制御,ネットワーク監視,イーサネット,光伝達網(OTN),高速インタフェース,光制御(波長変換・スイッチング・ルーチング),光ノード技術,光クロスコネクト(OXC),光分岐挿入多重(OADM),光多重・分離装置,光信号処理,光スイッチ素子,一般)
• 帯域可変型波長選択スイッチの開発 : モノリシック集積AWGのスイッチングデバイスへの応用(コア・メトロシステム,フォトニックネットワーク・システム,光ネットワーク運用管理,光ネットワーク設計,トラヒックエンジニアリング,シグナリング,GMPLS,ドメイン間経路制御,ネットワーク監視,イーサネット,光伝達網(OTN),高速インタフェース,光制御(波長変換・スイッチング・ルーチング),光ノード技術,光クロスコネクト(OXC),光分岐挿入多重(OADM),光多重・分離装置,光信号処理,光スイッチ素子,一般)
• 帯域可変型波長選択スイッチの開発 : モノリシック集積AWGのスイッチングデバイスへの応用(コア・メトロシステム,フォトニックネットワーク・システム,光ネットワーク運用管理,光ネットワーク設計,トラヒックエンジニアリング,シグナリング,GMPLS,ドメイン間経路制御,ネットワーク監視,イーサネット,光伝達網(OTN),高速インタフェース,光制御(波長変換・スイッチング・ルーチング),光ノード技術,光クロスコネクト(OXC),光分岐挿入多量(OADM),光多重・分離装置,光信号処理,光スイッチ素子,一般)
• C-3-21 シリコン細線導波路による超高速光スイッチ(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• Si細線導波路を用いた三種類の結合器における性能の分析と比較(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎,及び一般)
• 相変化材料を用いた導波路型光ゲートスイッチにおけるスイッチング動作(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• 相変化材料を用いた導波路型光ゲートスイッチにおけるスイッチング動作(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• 相変化材料を用いた導波路型光ゲートスイッチにおけるスイッチング動作(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• 相変化材料を用いた導波路型光ゲートスイッチにおけるスイッチング動作(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• 次世代光・電子システムにおける高耐熱性Ag系反射薄膜に関する研究
• シリコンフォトニクス(招待講演)
• ホットバキューム法による多成分ガラスフォトニッククリスタルロッドの作製
• Si導波路と相変化材料を用いた小型の自己保持型2x2光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• Si導波路と相変化材料を用いた小型の自己保持型2x2光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• Si導波路と相変化材料を用いた小型の自己保持型2x2光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• C-3-78 チャープコアバンド構造を用いた超高比屈折差アレイ導波路における0次回折光の低損失化(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• OECC2010報告 : パッシブデバイス・モジュール関連(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• OECC2010報告 : パッシブデバイス・モジュール関連(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• OECC2010報告 : パッシブデバイス・モジュール関連(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• CI-3-1 相変化材料を用いた自己保持型超小型光スイッチ(CI-3.シリコンフォトニクスに関わるアクティブデバイス,依頼シンポジウム,シンポジウムセッション)
• C-3-38 集積化シリコン導波路型光スイッチと光パスネットワークへの応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• 4ポート三接続状態を有するシリコン光スイッチ
• 4ポート三接続状態を有するシリコン光スイッチ(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 4ポート三接続状態を有するシリコン光スイッチ(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 4ポート三接続状態を有するシリコン光スイッチ(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• C-3-52 アモルファスシリコン細線導波路による超高速全光波長変換(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-41 相変化材料を用いたリブ型光ゲートスイッチ(光スイッチ,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム (レーザ・量子エレクトロニクス)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム (光エレクトロニクス)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム (電子部品・材料)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム (機構デバイス)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム (信頼性)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
• 液晶空間光変調器を用いた光スイッチ用高速収差補償アルゴリズム(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)

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