シリコンフォトニクス(招待講演)
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概要
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シリコンを光導波路のコアに、SiO_2や空気をクラッドとして用いるシリコンフォトニクスは、高屈折率差により微小光回路を実現できるとともに、既存の成熟したシリコンCMOS技術を光デバイスに転用できるために高品質なデバイスを低コストに実現できる可能性を持つ。また、光電子集積デバイスも作製が可能であり、近年活発な研究開発が進められてきている。われわれも光通信用大規模マトリックススイッチや光インターコネクションを目指しシリコンフォトニクスの研究を進めている。特に、バックエンドプロセスとしての光回路及び、立体的な光配線作製を考えると、低温で多層集積可能なアモルファスシリコンを用いた技術の開発が重要である。
- 2010-08-26
著者
-
河島 整
電子技術総合研究所
-
金高 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
森 雅彦
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
榊原 陽一
産業技術総合研究所
-
河島 整
産業技術総合研究所
-
河島 整
独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
岡野 誠
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
森 雅彦
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
亀井 利浩
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
庄司 雄哉
産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
古屋 克己
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
須田 悟史
産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
金高 健二
産業技術総合研究所
-
榊原 陽一
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
河島 整
産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
亀井 利浩
産業技術総合研究所マイクロシステム研究センター
-
庄司 雄哉
独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
須田 悟史
独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
須田 悟史
産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター
-
河島 整
産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター
-
庄司 雄哉
産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター
-
榊原 陽一
(独)産業技術総合研究所
-
森 雅彦
産業技術総合研究所
-
岡野 誠
産業技術総合研究所
-
須田 悟史
産業技術総合研究所
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