亀井 利浩 | 産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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概要
関連著者
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榊原 陽一
産業技術総合研究所
-
亀井 利浩
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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森 雅彦
産業技術総合研究所
-
森 雅彦
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
岡野 誠
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
森 雅彦
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
金高 健二
産業技術総合研究所
-
榊原 陽一
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
庄司 雄哉
産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター
-
岡野 誠
産業技術総合研究所
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金高 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
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糸賀 恵美子
産業技術総合研究所光技術研究部門
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庄司 雄哉
産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
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亀井 利浩
産業技術総合研究所マイクロシステム研究センター
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庄司 雄哉
独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
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榊原 陽一
(独)産業技術総合研究所
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河島 整
産業技術総合研究所
-
河島 整
独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
河島 整
産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
須田 悟史
産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター
-
須田 悟史
産業技術総合研究所
-
河島 整
電子技術総合研究所
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並木 周
産業技術総合研究所
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古屋 克己
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
須田 悟史
産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
石川 浩
産業技術総合研 ネットワークフォトニクス研究セ
-
須田 悟史
独立行政法人産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
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谷澤 健
産業技術総合研究所
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河島 整
産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター
-
金高 健二
産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター
-
武井 亮平
産業技術総合研究所
著作論文
- アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- シリコンフォトニクス(招待講演)
- C-3-16 1.55μm光通信波長帯におけるアモルファスシリコン細線光導波路の自然ラマン散乱観測(シリコンフォトニクス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)