次世代光・電子システムにおける高耐熱性Ag系反射薄膜に関する研究
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概要
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次世代光・電子システムにむけたアド・ドロップグレーティング方式の光伝送路において, 課題であった光伝送系の反射膜として, 酸化物系光導波路に適したAg系反射膜を開発した。そしてわれわれは, この熱的・化学的に不安定なAg系薄膜が安定な反射膜を保つメカニズムを明らかにした。そのメカニズムは, Cr薄膜によってAg表面拡散が抑制されAgの結晶粒成長が抑制される, というものである。またこのとき, Agの酸化物系SiO_2およびガラス基板に対する接着力と反射率の安定性には2nm近傍の極薄膜Crが有効であることを見出した。一方, この拡散支配型の結晶粒成長理論は, 薄膜が均一な膜を維持している範囲でのみ成立する。そして, これらの知見はその他の薄膜の熱安定性に関する材料・プロセス設計への展開可能性を示している。
- 2005-09-01
著者
-
佐藤 了平
大阪大学先端科学イノベーションセンター
-
岩田 剛治
大阪大学先端科学イノベーションセンター
-
裏 升吾
京都工芸繊維大学
-
佐藤 了平
大阪大学・先端科学イノベーションセンター
-
岩田 剛治
大阪大学・先端科学イノベーションセンター
-
岩田 剛冶
大阪大学大学院工学研究科生産科学専攻
-
岩田 剛治
大阪大学大学院工学研究科生産科学専攻
-
金高 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
黒田 晃弘
大阪大学大学院工学研究科
-
横田 耕一
大阪大学大学院工学研究科
-
中川 浩一
大阪大学大学院工学研究科
-
金高 健二
産業技術総合研究所
-
横田 耕一
大阪大学大学院工学研究科:(現)株式会社富士通研究所
-
黒田 晃弘
大阪大学大学院工学研究科:(現)三洋電機株式会社
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