YAGレーザを用いたSnO_2系薄膜の高速微細加工技術に関する研究
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概要
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ナノ秒パルスYAGレーザによるSnO_2系薄膜の高速ドライエッチングの検討を行った。実際に加工を行い,加工端部精度2μm,表面粗さ10nmを達成可能であることを確認した。さらに加工性は膜厚やパルス幅依存性があり,200〜300nm膜厚,数十nsパルスが適当であることを明らかにした。また加工が自由電子濃度に依存し,その加工可否を分ける閾値が4.0×10^<25>m^<-3>程度であることを明らかにした。しかし低自由電子濃度にもかかわらず加工が行えた結果も得られ,これに対しYAG光子(1.16eV)による中間準位からの電子励起メカニズムを推察した。こうした推定加工メカニズムをもとに適正材料を作成することで20mJ/mm^2の低エネルギ加工を達成し,高速加工が達成可能であることを示すことができた。
- 2009-07-01
著者
-
臼井 玲大
大阪大学大学院工学研究科
-
佐藤 了平
大阪大学先端科学イノベーションセンター
-
三原 雄
大阪大学大学院工学研究科
-
岩田 剛治
大阪大学先端科学イノベーションセンター
-
森永 英二
大阪大学大学院工学研究科
-
礒野 貴充
パナソニック株式会社
-
佐藤 了平
大阪大学・先端科学イノベーションセンター
-
岩田 剛治
大阪大学・先端科学イノベーションセンター
-
岩田 剛冶
大阪大学大学院工学研究科生産科学専攻
-
岩田 剛治
大阪大学大学院工学研究科生産科学専攻
-
岩田 剛治
大阪大学 大学院工学研究科
-
岩田 剛治
大阪大
-
岩田 剛治
若手会員の会運営委員会
-
森永 英二
大阪大学
-
三原 雄
大阪大学大学院工学研究科:(現)株式会社セガトイズ
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