ホットバキューム法による多成分ガラスフォトニッククリスタルロッドの作製
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
We have fabricated a photonic crystal rod (PCR), which is a novel optical connecting component with a two-dimensional photonic crystal structure, by drawing a preform made of a multicomponent alkali-borosilicate glass. A hot vacuum (725℃, 10hPa) stacking method was developed for the fabrication of the preform, which enables self-organization of the inner structure of the preform. PCRs with sub-micrometer dimensional accuracy were successfully fabricated by drawing the preform at 820℃, which is a much lower temperature than that used for the drawing of silica glass. The PCRs showed single-mode optical propagation at both wavelengths of 633 and 1550nm with mode field diameters (MFDs) of 23.1 and 33.4μm, respectively. The bending strength of the PCR reached 850MPa after ion-exchange treatment. PCR is expected to be a candidate for precision, high-strength, endlessly single-mode novel optical connecting components with large MFDs.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 2005-05-01
著者
-
西井 準治
(独)産業技術総合研究所
-
西井 準治
産業技術総合研
-
西井 準治
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
金高 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
山本 茂
日本電気硝子(株)
-
西井 準治
産業技術総合研究所
-
坂本 明彦
日本電気硝子株式会社
-
佐藤 史雄
日本電気硝子株式会社 技術部光材料グループ
-
金高 健二
産業技術総合研究所
-
佐藤 史雄
日本電気硝子株式会社
-
山本 茂
日本電気硝子
関連論文
- 招待講演 帯域可変型波長選択スイッチの開発--モノリシック集積AWGのスイッチングデバイスへの応用 (ネットワークシステム)
- アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- ガラスインプリント法による微細構造形成技術(微細構造による光機能性界面の創出)
- ガラスインプリント法による微細構造形成技術
- 構造緩和によるβ-スポジュメン固溶体結晶化ガラスの体積変化
- 微細周期構造による回折現象を利用した光導波路デバイス
- シリカガラス上の2次元無反射微細構造
- ガラス表面のサブ波長周期構造による広帯域低反射化 (特集 ガラス表面の高機能化)
- ナノプロジェクト研究最前線 共鳴領域の周期構造を利用した光学素子の作製
- 高強度プラズモン共鳴場創製のための周期構造とその応用 (特集 プラズモニクスの新展開)
- 微細構造の創製と光学素子への応用 (特集 急成長する光化学の最前線)
- チャネル光導波路を用いたボード内チップ間波長多重光配線の提案(光・電気複合実装モジュール技術,高性能電子機器を支える次世代高密度実装技術と実装材料技術論文)
- 深溝回折格子を埋め込んだ導波路型波長分離素子の試作(光波センシング,光波制御,検出,光計測,ニュロ,一般)
- 技術トピック サブ波長周期構造による広帯域・広視野角無反射化
- フォトニクスガラス材料の新規創製プロセスと物性評価 (特集 実用化が期待される産官共同の材料技術開発)
- 酸化物ガラスの光誘起屈折率変化
- 光ファイバー回折格子の最近の研究動向 (特集 「機能ガラス材料」)
- リン酸塩ガラス融液の対流に対する磁気効果
- 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製
- Si導波路と相変化材料を用いた小型の自己保持型2x2光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 帯域可変型波長選択スイッチの開発 : モノリシック集積AWGのスイッチングデバイスへの応用(コア・メトロシステム,フォトニックネットワーク・システム,光ネットワーク運用管理,光ネットワーク設計,トラヒックエンジニアリング,シグナリング,GMPLS,ドメイン間経路制御,ネットワーク監視,イーサネット,光伝達網(OTN),高速インタフェース,光制御(波長変換・スイッチング・ルーチング),光ノード技術,光クロスコネクト(OXC),光分岐挿入多重(OADM),光多重・分離装置,光信号処理,光スイッチ素子,一般)
- 帯域可変型波長選択スイッチの開発 : モノリシック集積AWGのスイッチングデバイスへの応用(コア・メトロシステム,フォトニックネットワーク・システム,光ネットワーク運用管理,光ネットワーク設計,トラヒックエンジニアリング,シグナリング,GMPLS,ドメイン間経路制御,ネットワーク監視,イーサネット,光伝達網(OTN),高速インタフェース,光制御(波長変換・スイッチング・ルーチング),光ノード技術,光クロスコネクト(OXC),光分岐挿入多重(OADM),光多重・分離装置,光信号処理,光スイッチ素子,一般)
- 帯域可変型波長選択スイッチの開発 : モノリシック集積AWGのスイッチングデバイスへの応用(コア・メトロシステム,フォトニックネットワーク・システム,光ネットワーク運用管理,光ネットワーク設計,トラヒックエンジニアリング,シグナリング,GMPLS,ドメイン間経路制御,ネットワーク監視,イーサネット,光伝達網(OTN),高速インタフェース,光制御(波長変換・スイッチング・ルーチング),光ノード技術,光クロスコネクト(OXC),光分岐挿入多量(OADM),光多重・分離装置,光信号処理,光スイッチ素子,一般)
- C-3-21 シリコン細線導波路による超高速光スイッチ(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 進化するガラス : 高機能ガラスと溶融技術革新
- 強磁場下におけるナノ粒子分散ハイブリッドガラスの作製 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- 宇宙用カバーガラスと熱制御用ミラーの開発
- アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- C-3-15 温度無依存ファイバー型ファブリ・ペロ・エタロンの開発(バッシブデバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- Si細線導波路を用いた三種類の結合器における性能の分析と比較(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎,及び一般)
- C-3-50 融着ファイバスタブを用いたコネクタ型ファイバ・ファブリ・ペロ・エタロンの信頼性試験(C-3. 光エレクトロニクス(パッシブデバイス・モジュール), エレクトロニクス1)
- C-3-46 融着ファイバスタブを用いたコネクタ型ファイバ・ファブリ・ペロ・エタロン(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 低膨張結晶化ガラスで被覆したシリカガラス光ファイバーの機械的及び光学特性
- C-3-99 融着法による結晶化ガラス製超耐熱ファイバスタブの開発 (I) : 製法および基本特性
- C-3-21 融着法による結晶化ガラス製超耐熱ファイバスタブの開発 (II) : ファイバスタブの信頼性評価
- 相変化材料を用いた導波路型光ゲートスイッチにおけるスイッチング動作(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 相変化材料を用いた導波路型光ゲートスイッチにおけるスイッチング動作(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 相変化材料を用いた導波路型光ゲートスイッチにおけるスイッチング動作(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 相変化材料を用いた導波路型光ゲートスイッチにおけるスイッチング動作(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 次世代光・電子システムにおける高耐熱性Ag系反射薄膜に関する研究
- C-3-142 フォトニック結晶ファイバコリメータの特性(ホーリーファイバ(2))(C-3.光エレクトロニクス)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- シリコンフォトニクス(招待講演)
- 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- B-10-27 モールドプレス法による高屈折率ガラス製マイクロレンズアレイの作製(B-10.光通信システムA(線路),一般セッション)
- ホットバキューム法による多成分ガラスフォトニッククリスタルロッドの作製
- C-3-95 多成分ガラスを用いた二次元フォトニッククリスタルロッドの試作
- 結晶化ガラスフェルールの製法と特性
- 結晶化ガラスフェルールの開発と工業化
- LAS系結晶化ガラスの新展開
- 高圧結晶化を行ったLi_2O-Al_2O_3-SiO_2系結晶化ガラスの光学特性
- C-3-47 フェムト秒レーザー照射により作製した光減衰ファイバスタブの特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-133 フェムト秒パルスレーザー照射による光減衰ファイバの作製(光ファイバ)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-27 FBG温度補償用低ヒステリシス負熱膨張セラミックの開発(FBG)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-73 負熱膨張セラミック基材を用いた温度補償 FBG コンポーネントの信頼性試験
- Li_2O-Al_2O_3-SiO_2 系ガラスの結晶化における圧力印加の影響
- FBG温度補償用マイナス膨張セラミック基板
- FBG温度補償用マイナス膨張セラミック基板
- FBG温度補償用マイナス膨張セラミック基板
- FBG温度補償用マイナス膨張セラミック基板
- C-3-95 FBG実装用マイナス膨張セラミックスの対接着剤特性
- 光コネクタ用結晶化ガラスフェルールの試作
- Si導波路と相変化材料を用いた小型の自己保持型2x2光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- Si導波路と相変化材料を用いた小型の自己保持型2x2光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- Si導波路と相変化材料を用いた小型の自己保持型2x2光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- C-3-78 チャープコアバンド構造を用いた超高比屈折差アレイ導波路における0次回折光の低損失化(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- ガラスインプリント法によるサブ波長光学素子の形成
- 超高圧とレーザー加熱を用いた微細加工技術 (特集 新しい光学ガラスの応用と微細加工技術)
- シリカガラスの微細加工 (特集 レーザー加工技術)
- OECC2010報告 : パッシブデバイス・モジュール関連(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- OECC2010報告 : パッシブデバイス・モジュール関連(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- OECC2010報告 : パッシブデバイス・モジュール関連(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティング
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティングの提案と特性評価
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティングの提案と特性評価
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティングの提案と特性評価
- ポストチューニング可能な長周期ファイバグレーティングの提案と特性評価
- 外部場操作技術 (特集 ナノガラスプロジェクトの成果と展望) -- (産総研関西センターの成果と展望)
- 5)AMLCD用ガラス基板の耐薬品性 : 特にフッ酸およびバッファードフッ酸による浸食について(情報ディスプレイ研究会)
- AMLCD用ガラス基板の耐薬品性 : 特にフッ酸およびバッファードフッ酸による浸食について : 材料・部品および周辺技術関連 : 情報ディスプレイ
- AMLCD用ガラス基板の耐薬品性 : 特にフッ酸およびバッファードフッ酸による浸食について
- 磁場下におけるリン酸塩ガラスにおける融液の熱対流 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- ナノプロジェクト研究最前線 ナノサイズの異質相を持つガラス材料のアサーマル化
- 超高圧とレーザー加熱を用いた微細加工技術
- シリカガラスの微細加工
- 酸化物ガラス中に形成された新たな光機能(第58回日本セラミックス協会学術賞受賞研究総説)
- 結晶化ガラスフェルール (特集 光デバイスの新局面--フォトニックセラミックス)
- CI-3-1 相変化材料を用いた自己保持型超小型光スイッチ(CI-3.シリコンフォトニクスに関わるアクティブデバイス,依頼シンポジウム,シンポジウムセッション)
- 4ポート三接続状態を有するシリコン光スイッチ
- 反射防止構造を形成したガラスモールドレンズ
- 光の反射を防止できるガラス表面を開発
- 共鳴領域での深溝回折格子を利用した分波器 (特集 フォトニクスデバイス)
- フラットパネルディスプレイ用ガラス (特集 ディスプレイ用ガラス・セラミック材料の進展)