AMLCD用ガラス基板の耐薬品性 : 特にフッ酸およびバッファードフッ酸による浸食について
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概要
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AMLCD用無アルカリガラス基板の耐薬品性を塩酸、硫酸、硝酸、フッ酸、バッファードフおよび水酸化ナトリウムの各薬液を用いて調べた。ガラス基板はBHF処理後にくもりを生じるこれは微小な突起によることが顕微鏡観察によりわかった。突起の発生防止に有効なBHFの組ガラス基板の洗浄条件等が明らかになった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-07-26
著者
-
山本 茂
日本電気硝子(株)
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小野田 卓弘
日本電気硝子(株)
-
石田 彰一
森田化学工業株式会社
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宮本 光雄
森田化学工業株式会社
-
三和 晋吉
日本電気硝子(株)
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北 直英
森田化学工業株式会社
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北 直英
森田化学工業半導体薬品事業部管理課
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三和 晋吉
日本電気硝子
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石田 彰一
森田化学工業株式会社:東北大学電気通信研究所超高密度・高速知能システム実験施設
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山本 茂
日本電気硝子
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