C-3-73 負熱膨張セラミック基材を用いた温度補償 FBG コンポーネントの信頼性試験
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-09-10
著者
関連論文
- 構造緩和によるβ-スポジュメン固溶体結晶化ガラスの体積変化
- ガラスおよびガラスセラミック粉体を用いた生体活性骨セメントの骨結合強度の比較検討
- C-3-15 温度無依存ファイバー型ファブリ・ペロ・エタロンの開発(バッシブデバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-50 融着ファイバスタブを用いたコネクタ型ファイバ・ファブリ・ペロ・エタロンの信頼性試験(C-3. 光エレクトロニクス(パッシブデバイス・モジュール), エレクトロニクス1)
- C-3-46 融着ファイバスタブを用いたコネクタ型ファイバ・ファブリ・ペロ・エタロン(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 低膨張結晶化ガラスで被覆したシリカガラス光ファイバーの機械的及び光学特性
- C-3-99 融着法による結晶化ガラス製超耐熱ファイバスタブの開発 (I) : 製法および基本特性
- C-3-21 融着法による結晶化ガラス製超耐熱ファイバスタブの開発 (II) : ファイバスタブの信頼性評価
- B-10-27 モールドプレス法による高屈折率ガラス製マイクロレンズアレイの作製(B-10.光通信システムA(線路),一般セッション)
- ホットバキューム法による多成分ガラスフォトニッククリスタルロッドの作製
- C-3-95 多成分ガラスを用いた二次元フォトニッククリスタルロッドの試作
- 結晶化ガラスフェルールの製法と特性
- 結晶化ガラスフェルールの開発と工業化
- LAS系結晶化ガラスの新展開
- 高圧結晶化を行ったLi_2O-Al_2O_3-SiO_2系結晶化ガラスの光学特性
- C-3-47 フェムト秒レーザー照射により作製した光減衰ファイバスタブの特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-133 フェムト秒パルスレーザー照射による光減衰ファイバの作製(光ファイバ)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-27 FBG温度補償用低ヒステリシス負熱膨張セラミックの開発(FBG)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-73 負熱膨張セラミック基材を用いた温度補償 FBG コンポーネントの信頼性試験
- Li_2O-Al_2O_3-SiO_2 系ガラスの結晶化における圧力印加の影響
- FBG温度補償用マイナス膨張セラミック基板
- FBG温度補償用マイナス膨張セラミック基板
- FBG温度補償用マイナス膨張セラミック基板
- FBG温度補償用マイナス膨張セラミック基板
- C-3-95 FBG実装用マイナス膨張セラミックスの対接着剤特性
- 光コネクタ用結晶化ガラスフェルールの試作
- 結晶化ガラスフェルール (特集 光デバイスの新局面--フォトニックセラミックス)