C-3-142 フォトニック結晶ファイバコリメータの特性(ホーリーファイバ(2))(C-3.光エレクトロニクス)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2004-03-08
著者
-
森下 裕一
昭和電線電纜株式会社
-
森下 裕一
昭和電線電纜株式会社 情報通信開発室ファイバグループ
-
藤田 仁
昭和電線デバイステクノロジー(株)
-
森下 裕一
昭和電線電らん
-
藤田 仁
昭和電線電纜株式会社 情報通信開発室ファイバグループ
-
大根田 進
昭和電線電纜株式会社 情報通信開発室ファイバグループ
-
佐藤 史雄
日本電気硝子株式会社 技術部光材料グループ
-
佐藤 史雄
日本電気硝子株式会社
-
大根田 進
昭和電線電らん
関連論文
- C-3-91 ポリイミドリコートファイバグレーティング
- C-3-34 固定減衰器用減衰ファイバのクラッドモード抑圧
- 固定減衰器用光ファイバの設計--クラッドモードの抑圧
- 減衰特性を有する光ファイバの長期信頼性試験
- ファイバグレーティング内蔵SCコネクタ
- 5 eV吸収欠陥とファイバ・グレーティングの熱劣化
- 金属ドープ光ファイバを用いたピグテール型光減衰器
- ファイバ・グレーティングの温度補償パッケージ
- 制御端付EDFAとその応用光回路設計法
- 制御端付EDFAとその応用光回路設計法
- マスクの振動によるアポダイズ・ファイバ・グレーディングの作製
- ファイバグレーティング書込によるOH損失の増加
- 5eV帯吸収とファイバ・グレーティング
- 前方励起Erドープ光ファイバ増幅器(EDFA)の終端における残余励起光の挙動
- 水素処理及び紫外線照射による屈折率変化
- 金属ドープ光ファイバを用いた光減衰器,及び,光終端器の諸特性
- C-3-27 位相マスク法による損失の低減と利用
- C-3-26 位相マスク法における回折光のグレーティング特性への影響
- B-10-21 1.55 & 1.65μm帯遮断ファイバグレーティング内蔵SCコネクタ
- ファイバ・グレ-ティングの応用製品
- 減衰ファイバの波長特性改善
- 減衰ファイバの波長特性改善
- フェムト秒レーザによる長周期ファイバグレーティングの作製
- C-3-142 フォトニック結晶ファイバコリメータの特性(ホーリーファイバ(2))(C-3.光エレクトロニクス)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバを用いたコリメータの開発
- C-3-40 フォトニック結晶ファイバコリメータ
- C-3-54 結晶化ガラスを用いた温度補償パッケージファイバグレーティング
- C-3-25 特殊屈折率分布型SBS抑圧ファイバ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- B-10-27 モールドプレス法による高屈折率ガラス製マイクロレンズアレイの作製(B-10.光通信システムA(線路),一般セッション)
- C-3-100 細径クラッドファイバの開発
- ホットバキューム法による多成分ガラスフォトニッククリスタルロッドの作製
- C-3-95 多成分ガラスを用いた二次元フォトニッククリスタルロッドの試作
- C-3-63 MU コネクタ内蔵用モードフィールド変換部の開発
- SM-NSPファイバの開発
- C-3-31 高温高湿下でのフェルール内のファイバ伸び歪(光コネクタ,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-108 低曲げ損失用ホーリーファイバの開発(C-3. 光エレクトロニクス(ホーリーファイバ), エレクトロニクス1)
- 結晶化ガラスフェルール (特集 光デバイスの新局面--フォトニックセラミックス)
- 誘導ブリユアン散乱抑圧ファイバ