5 eV吸収欠陥とファイバ・グレーティングの熱劣化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
光ファイバ・ブラッグ・グレーティング(FBG)の熱劣化特性の報告が多くなされており, ファイバの種類あるいは作製条件の違いによっても, 熱劣化特性は変わってくることが言われている。熱劣化の原因は, 紫外線誘起屈折率変化したガラス欠陥の緩和であり, 紫外線誘起屈折率変化と関係がある5 eV帯吸収欠陥と熱劣化との関係が考えられる。今回, 5 eV帯吸収を変化させたファイバを用いてFBGを作製し, その反射特性の熱劣化特性を比較評価したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
関連論文
- Sm^ドープ光ファイバの室温ホールバーニング
- C-3-91 ポリイミドリコートファイバグレーティング
- 全光化回路設計支援用光CADシミュレータの開発
- 全光化回路設計支援用光CADシミュレータの開発
- C-3-34 固定減衰器用減衰ファイバのクラッドモード抑圧
- 固定減衰器用光ファイバの設計--クラッドモードの抑圧
- 減衰特性を有する光ファイバの長期信頼性試験
- ファイバグレーティング内蔵SCコネクタ
- 広帯域WDMカプラの試作
- 低レーリ散乱多成分ガラス重水置換ファイバの作製
- 低レイリ-散乱重水素置換多成分ガラスファイバ
- ファイバ型広帯域WDMカプラの開発
- 5 eV吸収欠陥とファイバ・グレーティングの熱劣化
- 金属ドープ光ファイバを用いたピグテール型光減衰器
- ファイバ・グレーティングの温度補償パッケージ
- 制御端付EDFAとその応用光回路設計法
- 制御端付EDFAとその応用光回路設計法
- マスクの振動によるアポダイズ・ファイバ・グレーディングの作製
- ファイバグレーティング書込によるOH損失の増加
- 5eV帯吸収とファイバ・グレーティング
- 前方励起Erドープ光ファイバ増幅器(EDFA)の終端における残余励起光の挙動
- 水素処理及び紫外線照射による屈折率変化
- 金属ドープ光ファイバを用いた光減衰器,及び,光終端器の諸特性
- C-3-27 位相マスク法による損失の低減と利用
- C-3-26 位相マスク法における回折光のグレーティング特性への影響
- B-10-21 1.55 & 1.65μm帯遮断ファイバグレーティング内蔵SCコネクタ
- ファイバ・グレ-ティングの応用製品
- ガラス毛細管中での有機結晶方位の制御 (光)
- 減衰ファイバの波長特性改善
- 減衰ファイバの波長特性改善
- フェムト秒レーザによる長周期ファイバグレーティングの作製
- 回転楕円体コンフォーマルアレーアンテナにおけるDBFマルチビーム形成
- C-3-142 フォトニック結晶ファイバコリメータの特性(ホーリーファイバ(2))(C-3.光エレクトロニクス)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- フォトニック結晶ファイバコリメータ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- C-3-40 フォトニック結晶ファイバコリメータ
- C-3-54 結晶化ガラスを用いた温度補償パッケージファイバグレーティング
- アクティブ型コンフォーマルアンテナによるビーム形成
- 超薄型アクティブ/コンフォーマル空中線
- コンフォーマル・アレイ・アンテナの指向性合成法
- C-3-25 特殊屈折率分布型SBS抑圧ファイバ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-31 高温高湿下でのフェルール内のファイバ伸び歪(光コネクタ,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-108 低曲げ損失用ホーリーファイバの開発(C-3. 光エレクトロニクス(ホーリーファイバ), エレクトロニクス1)
- ディジタルビーム形成によるアクティブコンフォーマルフェーズドアレイアンテナの放射特性
- コンフォーマルアンテナ用リアルタイムマルチビームプロセッサの開発
- コンフォーマルアレイアンテナによるディジタルビーム形成
- コンフォーマルアレイアンテナでの低サイドローブビーム形成法に関する検討
- 1.55μm帯分散シフトSMファイバの開発 (光ファイバ・システム小特集-4-)
- 全合成法によるSMファイバの開発 (光ファイバ・システム小特集-4-)
- 光ファイバ中の欠陥と放射線特性 (光ファイバ・システム小特集)
- シングルモ-ド光ファイバ
- VAD法による大口径高NA光ファイバ (光ファイバ・システム小特集)
- 結晶化ガラスフェルール (特集 光デバイスの新局面--フォトニックセラミックス)
- 誘導ブリユアン散乱抑圧ファイバ