Quantum Yield of Electron-Beam Induced Decomposition of SiO_2 Overlay on Si in Nanolithography Using Scanning Tunneling Microscope : Surfaces, Interfaces, and Films
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2001-10-15
著者
-
岩崎 裕
大阪大学産業科学研究所
-
岩崎 裕
阪大
-
GOTOH Masahide
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
SUDOH Koichi
The Institute of Scient4fic and Industrial Research, Osaka University
-
IWASAKI Hiroshi
The Institute of Scient4fic and Industrial Research, Osaka University
-
ITO Tetsuzo
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
Iwasaki Hiroshi
Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka Univerisity
-
Sudoh K
Osaka Univ. Osaka Jpn
-
Sudoh Koichi
The Institute Of Scient4fic And Industrial Research Osaka University
-
Iwasaki Hiroko
Research And Development Center Ricoh Company Ltd.
-
Ito T
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Gotoh Midori
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Sudoh Koichi
The Institute of Science and Industrial Research, Osaka University
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