原子間力顕微鏡によるシリコン表面のナノ陽極酸化
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概要
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- 2001-09-01
著者
-
吉信 達夫
Department of Electronic Engineering, Tohoku University
-
岩崎 裕
大阪大学産業科学研究所
-
岩崎 裕
阪大
-
岩崎 裕
阪大産研
-
吉信 達夫
阪大産研
-
文元 鐵
阪大産研
-
Iwasaki Hiroshi
Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka Univerisity
-
吉信 達夫
阪大・産研・量子分子デバイス : Jst Crest
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