原子間力顕微鏡を用いたシリコン表面の局所陽極酸化 (特集 マテリアルインテグレーション--材料・生体・情報の融合を目指して(1))
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概要
著者
-
吉信 達夫
Department of Electronic Engineering, Tohoku University
-
岩崎 裕
大阪大学産業科学研究所
-
岩崎 裕
阪大
-
岩崎 裕
阪大産研
-
Iwasaki H
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Iwasaki Hiroshi
Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka Univerisity
-
吉信 達夫
阪大・産研・量子分子デバイス : Jst Crest
-
Iwasaki Hiroko
Research And Development Center Ricoh Company Ltd.
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