岩崎 裕 | 阪大産研
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概要
関連著者
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岩崎 裕
阪大産研
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岩崎 裕
阪大
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岩崎 裕
大阪大学産業科学研究所
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Iwasaki Hiroshi
Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka Univerisity
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Iwasaki H
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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Iwasaki Hiroko
Research And Development Center Ricoh Company Ltd.
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須藤 孝一
阪大産研
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須藤 孝一
阪大工
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須藤 孝一
大阪大学産業科学研究所
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Ihara H
Electrotechnical Laboratory
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Ihara H
Toshiba Research & Development Center Toshiba Corporation
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吉信 達夫
阪大・産研・量子分子デバイス : Jst Crest
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中村 勝吾
阪大 産研
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吉信 達夫
阪大産研
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吉信 達夫
Department of Electronic Engineering, Tohoku University
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中村 勝吾
阪大・産研
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李 成泰
阪大・産研
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中村 勝吾
阪大産研
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李 成泰
阪大産研
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丸野 茂光
阪大産研
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堀岡 啓治
阪大産研
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丸野 茂光
大阪大学産業科学研究所
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堀岡 啓治
大阪大学産業科学研究所
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鈴木 健二
東大院工
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岩崎 裕
阪大・産研・量子分子デバイス
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IWASAKI Hiroshi
The Institute of Scient4fic and Industrial Research, Osaka University
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後藤 洋臣
阪大産研
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鈴木 健二
阪大産研
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長谷川 繁彦
阪大・産研
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山本 真人
阪大産研
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堀 信康
阪大産研
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SUDOH Koichi
The Institute of Scient4fic and Industrial Research, Osaka University
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宮里 幸司
阪大産研
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Sudoh K
Osaka Univ. Osaka Jpn
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Sudoh Koichi
The Institute Of Scient4fic And Industrial Research Osaka University
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入澤 寿美
学習院大計セ
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岩本 篤
阪大産研
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亀谷 圭介
阪大産研
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松本 喜以子
学習院大計セ
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秋月 誠
阪大・産研
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Sudoh Koichi
The Institute of Science and Industrial Research, Osaka University
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上羽 牧夫
名大院理
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長谷川 繁彦
阪大産研
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松本 喜以子
学習院大学
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入澤 寿美
学習院大学
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阿南 憲法
阪大産研
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Koyano Mikio
Japan Advanced Institute Of Science And Technology Jaist
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宮田 譲
阪大産研
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Iwasaki Hideo
Japan Advanced Institute Of Science And Technology Jaist
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KAMETANI Keisuke
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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上羽 牧夫
名大・理
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上羽 牧夫
名古屋大学理学研究科物理学教室
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Kametani Keisuke
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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阿久津 典子
大阪電通大工
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山本 隆夫
群馬大工
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田中 高穂
無機材研
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HORI Hidenobu
School of Materials Science,JAIST
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上羽 牧夫
名大理
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上田 正則
理化学研究所
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KOYANO Mikio
School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology
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阿久津 泰弘
阪大理
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河合 七雄
無機材研
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一宮 彪彦
名大工応物
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入澤 寿美
学習院大計算機セ
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松本 喜以子
学習院大計算機セ
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木村 考伸
阪大産研
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堀 信康
大阪大学産業科学研究所
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上羽 牧夫
名古屋大学理学研究科
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GOTOH Masahide
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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森影 有貴
阪大産研
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文元 鐵
阪大産研
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後藤 洋臣
大阪大学産業科学研究所
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藤村 英明
阪大産研
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YOSHINOBU Tatsuo
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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溝川 悠介
大阪府立大学総合教育研究機構
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上原 直人
阪大産研
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Koyano Mikio
School Of Materials Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology
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Hori Hidenobu
Japan Synchrotron Radiation Research Institute
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阿久津 典子
阪電通大工
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Yoshinobu T
Osaka Univ. Osaka Jpn
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Yoshinobu Tatsuo
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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Yoshinobu Tatsuo
Department Of Electrical Engineering Kyoto University:(present Address) The Institute Of Scientific
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MOON Won-chul
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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Moon Won-chul
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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入澤 寿美
学習院大
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上羽 牧夫
名大
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清水 了典
富士電機アドバンストテクノロジー(株)物質・科学研究所
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松本 喜以子
学習院大・理
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溝川 悠介
阪府大総科
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栗林 均
富士電機アドバンストテクノロジー
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蛭田 玲子
富士電機アドバンストテクノロジー
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亀谷 圭介
大阪大学産業科学研究所
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後藤 雅秀
大阪大学産業科学研究所
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森影 符貴
阪大産研
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IWASAKI Hideo
School of Materials Science, JAIST
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江刺 正喜
東北大工
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上田 正則
阪大・産研
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米田 育広
阪大・産研
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李 成泰
大阪大学産業科学研究所
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中村 勝吾
大阪大学産業科学研究所
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Sano Seijirou
Japan Advanced Institute Of Science And Technology Jaist
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八木 秀一
阪大産研
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西谷 正和
阪大産研
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YOKOYAMA Shin-ya
Japan Advanced Institute of Science and Technology, JAIST
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TSUKUI Tomoharu
Japan Advanced Institute of Science and Technology, JAIST
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Gotoh Midori
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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Hori Hidenobu
School Of Material Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology
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Iwasaki Hideo
School Of Materials Science Jaist
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須藤 幸一
阪大産研
著作論文
- 24pTD-1 タウマチン結晶構造への塩の影響(結晶成長,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 21aXK-9 荒れた微斜面の平坦化I-SrTiO_3のSTM観察(結晶成長,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 21aXK-10 荒れた微斜面の平坦化II : MCシミュレーション(結晶成長,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 21pXL-6 SrTio_3(001)表面における三次元穴の緩和II(表面界面ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 半導体化学イメージセンサのマイクロ流路デバイスへの応用
- 22pPSA-6 AFMによるタウマチン正方晶の分子分解能観察(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 20aPS-5 AFM による卵白リゾチーム結晶 (110) 面の成長観察
- 半導体化学イメージセンサによるマイクロ流路内のイオン濃度分布測定
- 21aWH-11 SrTiO_3(001)表面における三次元穴の緩和(表面界面ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)
- Interface Morphology of Thermal-Oxide/Si(001) Studied by Scanning Tunneling Microscopy
- 01pC05 荒れた微斜面の平坦化 : STM観察とMCシミュレーションI(結晶成長基礎(3),第36回結晶成長国内会議)
- 25pPSB-40 SrTiO_3(001)表面における多層構造を形成している穴の熱緩和に関する研究(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25pPSB-3 3次元核形成がもたらすリゾチーム正方晶の結晶形態のばらつき(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25pPSB-2 AFMによる卵白リゾチーム斜方晶form I型結晶の観察(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28pXJ-1 Si(111)微斜面におけるステップ核形成によるCaF_2薄膜の成長形態(28pXJ 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 原子間力顕微鏡を用いたシリコン表面の局所陽極酸化 (特集 マテリアルインテグレーション--材料・生体・情報の融合を目指して(1))
- 30aPS-2 AFMによる卵白リゾチーム針状結晶の観察(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27aXJ-10 SrTiO_3(001)におけるSTM探針により作成したステップの非平衡構造の熱緩和(27aXJ 表面ダイナミックス(半導体表面),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 半導体化学イメージセンサの開発と応用 (特集 マテリアルインテグレーション--材料・生体・情報の融合を目指して(1))
- メゾ構造のアニールによる変形と制御
- 21aPS-55 ステップ間相互作用が存在する系でのステップの熱平坦化のモンテカルロシミュレーション(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aPS-2 a-SiO_2中におけるSi結晶成長のモンテカルロシミュレーション(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aPS-1 Si(111)微斜面におけるCaF_2膜の成長過程(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 原子間力顕微鏡によるシリコン表面のナノ陽極酸化
- SrTiO_3(001)表面におけるステップの熱緩和
- 27aWB-4 SrTiO_3(001)表面のステップの熱緩和過程におけるステップ間相互作用の影響(表面・界面構造, ダイナミクス,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 24aPS-144 結晶微細構造のコーナー部分におけるステップのダイナミクス(表面・界面, 結晶成長,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 25aZB-11 欠陥を持つ興奮性反応場でのスパイラルウェーブの生成と運動
- 25aT-5 化学反応波のギャップ伝播
- 28a-P-9 ドットアレイ反応場でのパターン形成
- 19pPSB-51 STMによるSi(113)表面上のCaF_2成長に関する研究
- Enhanced Nano-Oxidation on a SCi-Treated Si Surface Using Atomic Force Microscopy
- 26p-G-7 格子状反応場での興奮波パターン
- PHイメージセンサーを用いた細菌コロニーのイメージング
- 28p-C-1 銅めっき表面のカイネティックラフニング : シミュレーション
- 4p-E-5 電気化学堆積銅表面のカイネティックラフニング
- 3a-YH-7 微斜面におけるステップの揺らぎと表面の揺らぎ
- 15aPS-48 CaF_2/Si(111) エピタキシャル成長における二次元島密度のテラス幅依存性(領域 9)
- 20aPS-50 Si(111) 表面上の CaF_2 成長過程におけるステップカイネティクス
- 14pXG-12 シリコン表面上に形成したトレンチ構造の側壁におけるステップの挙動(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- 20aPS-38 SrTiO_3(001) 表面におけるステップの揺らぎ
- 19pRH-3 Si(113)微斜面の酸素ガスエッチング過程におけるファセット成長
- Si(111)上のCaF_2薄膜成長の走査トンネル顕微鏡観察
- SiO_2/Si(001)界面の走査トンネル顕微鏡による解析
- 28aTA-9 Si(113)表面のファセッティングにおけるステップダイナミクス
- 24pPSA-48 CaF_2/Si(111)表面のSTM観察
- 24aPS-62 STMによるSi表面上における電界誘起ナノピット形成
- 26aPS-45 Si(113)微斜面におけるファッセッティングのダイナミクス
- 4a-RJ-9 Si(111)5×1-Au相の角度分解電子エネルギー損失分光
- シリコン表面におけるステップダイナミクスの研究 (特集 マテリアルインテグレーション--材料・生体・情報の融合を目指して(1))
- 2a-YB-10 AFMによる鎖状DNA分子の観察
- 第8回固体センサ-・アクチュエ-タ国際会議報告
- 30a-D-10 Ge_xSi_(111)高温相の(√×√)的散漫散乱構造
- 1a-S-11 Si(111)表面の低温及び高温におけるステップ構造
- 1a-S-9 Si(111)高温相の√×√散漫散乱
- 27a-Y-13 Si(111)7×7清浄表面及びAg吸着面における表面プラズモンの分散
- 27a-Y-3 Si(111)7×7及び1×1清浄面の角度分解EELS
- 走査トンネル(効果)顕微鏡による表面原子構造の実空間観察--Si(111)7×7超構造表面(トピックス)
- 30p-M-11 I-V曲線に現われたSi(001)表面の非弾性低速電子回折の異常
- 31a-L-6 Si(001)面の表面遷移ELSの角度分布
- 2a-NM-9 Si(001)面の表面プラズモンの分散
- Selective Reaction of Ferrocene with Si(111) Using a CaF Mask
- Epitaxial Growth of CaF_2 Films on Si(111) Studied by Scanning Tunneling Microscopy(Surfaces, Interfaces, and Films)
- 24aPS-114 微斜面上でのサブモノレイヤー成長における2次元島の形成と成長(表面・界面, 結晶成長,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 27aPS-17 シリコン結晶中における酸素拡散の分子動力学シミュレーション(領域11,領域12合同ポスターセッション,領域11(統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理))
- 2p-Q-14 LaB_6表面局在電子状態のUPS
- シリコン表面のESRによる研究 : 半導体 (表面)
- Evaluation of the Figure of Merit of Thermoelectric Modules by Harman Method
- Evaluation of the Figure of Merit on Thermoelectric Materials by Harman Method
- Si (001) 面からの低速電子線非弾性回折 (ILEED)
- 7aSN-3 SrTiO3(001)表面におけるステップの形態(結晶成長・表面界面ダイナミクス,領域9)
- 31p-P-13 銅表面の電気化学的溶解に伴うカイネティックラフニング(31pP 統計力学・物性基礎論(凝集系,フラクタル),統計力学・物性基礎論)
- 2p-A1-3 Si(111)5×5-GeのAR-EELS(2p A1 表面・界面,量子エレクトロニクス)