宮里 幸司 | 阪大産研
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概要
関連著者
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岩崎 裕
大阪大学産業科学研究所
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須藤 孝一
阪大産研
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岩崎 裕
阪大
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岩崎 裕
阪大産研
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宮里 幸司
阪大産研
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Iwasaki H
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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Iwasaki Hiroshi
Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka Univerisity
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Iwasaki Hiroko
Research And Development Center Ricoh Company Ltd.
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須藤 孝一
阪大工
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Ihara H
Electrotechnical Laboratory
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Ihara H
Toshiba Research & Development Center Toshiba Corporation
著作論文
- 28pXJ-1 Si(111)微斜面におけるステップ核形成によるCaF_2薄膜の成長形態(28pXJ 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aPS-1 Si(111)微斜面におけるCaF_2膜の成長過程(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 24aPS-114 微斜面上でのサブモノレイヤー成長における2次元島の形成と成長(表面・界面, 結晶成長,領域9(表面・界面, 結晶成長))