吉信 達夫 | Department of Electronic Engineering, Tohoku University
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概要
関連著者
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吉信 達夫
Department of Electronic Engineering, Tohoku University
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岩崎 裕
阪大
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吉信 達夫
阪大・産研・量子分子デバイス : Jst Crest
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岩崎 裕
大阪大学産業科学研究所
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Iwasaki Hiroshi
Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka Univerisity
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岩崎 裕
阪大産研
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吉信 達夫
大阪大学産業科学研究所
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Iwasaki Hiroko
Research And Development Center Ricoh Company Ltd.
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Iwasaki H
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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吉信 達夫
阪大産研
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鈴木 健二
東大院工
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鈴木 健二
阪大産研
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文 元鐵
大阪大学産業科学研究所
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文 元鐵
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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須藤 孝一
阪大産研
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須藤 孝一
大阪大学産業科学研究所
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野村 聡
(株)堀場製作所開発センター
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野村 聡
堀場製作所
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冨田 勝彦
豊橋技術科学大学
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李 楠
大阪大学産業科学研究所
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野村 聡
堀場製作所 開セ
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中尾 基
堀場製作所
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高松 修司
(株)堀場製作所開発センター
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Ihara H
Electrotechnical Laboratory
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Ihara H
Toshiba Research & Development Center Toshiba Corporation
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野村 聡
株式会社堀場製作所 開発センター
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木賀 大介
東工大・総理・知能システム科学
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原田 哲郎
大阪大学産業科学研究所
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中西 剛
堀場製作所
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鈴木 純
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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SHANMUGAM Kumaran
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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岩崎 裕
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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木賀 大介
東工大・院総合理工・知能システム
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陶山 明
東大・院総文・生命環境・物理
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木賀 大介
東大・院総文
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田川 美穂
東大・院総文・生命環境
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吉信 達夫
阪大・産研・量子分子デバイス
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岩崎 裕
阪大・産研・量子分子デバイス
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木村 考伸
阪大産研
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文元 鐵
阪大産研
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川本 一平
大阪大学産業科学研究所
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ISMAIL Abu
大阪大学産業科学研究所
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陶山 明
東大院・総文・生命
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中尾 基
(株)堀場製作所開発センター
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高松 修司
堀場製作所
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冨田 勝彦
堀場製作所
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中西 剛
(株)堀場製作所RITE-吉祥院第2研究室
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冨田 勝彦
(株)堀場製作所RITE-吉祥院第2研究室
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Ismail A
大阪大学産業科学研究所
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Shanmugam Kumaran
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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中尾 基
(株)堀場製作所
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鈴木 純
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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Ismail A
Saga Univ.
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冨田 勝彦
(株)堀場製作所
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野村 聡
(株)堀場
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陶山 明
東大院・総合・生命
著作論文
- AFM陽極酸化法によるシリコン表面上たんぱく質分子微細パターン作製
- シリコン表面のナノトライボロジー
- 原子間力顕微鏡によるSi酸化膜の表面のナノトライボロジー
- 2P125 DNAナノ構造体のプログラム可能な階層的アセンブリ(核酸 A) 構造・物性))
- 半導体化学イメージセンサのマイクロ流路デバイスへの応用
- 20aPS-5 AFM による卵白リゾチーム結晶 (110) 面の成長観察
- 半導体化学イメージセンサによるマイクロ流路内のイオン濃度分布測定
- 原子間力顕微鏡を用いたシリコン表面の局所陽極酸化 (特集 マテリアルインテグレーション--材料・生体・情報の融合を目指して(1))
- 半導体化学イメージセンサの開発と応用 (特集 マテリアルインテグレーション--材料・生体・情報の融合を目指して(1))
- 原子間力顕微鏡によるシリコン表面のナノ陽極酸化
- 25aZB-11 欠陥を持つ興奮性反応場でのスパイラルウェーブの生成と運動
- 走査プローブ法による半導体表面ナノ加工
- 化学イメージセンサを用いたイオン拡散の測定
- 25aT-5 化学反応波のギャップ伝播
- 28a-P-9 ドットアレイ反応場でのパターン形成
- 高分解能半導体化学イメージングセンサ
- 微小領域二次元pH分布可視化のための光走査型化学顕微鏡
- STMによるシリコン酸化膜を用いたナノ加工プロセス
- Si(113)表面におけるステップの揺らぎ
- 26p-G-7 格子状反応場での興奮波パターン