28a-P-9 ドットアレイ反応場でのパターン形成

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1999-03-15

著者

• 鈴木 健二

  東大院工

• 吉信 達夫

  Department of Electronic Engineering, Tohoku University

• 岩崎 裕

  阪大

• 岩崎 裕

  阪大産研

• 吉信 達夫

  阪大産研

• 鈴木 健二

  阪大産研

• 吉信 達夫

  阪大・産研・量子分子デバイス : Jst Crest

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