Low Energy Electron Stimulated Etching of Thin Si-Oxide Layer in Nanometer Scale Using Scanning Tunneling Microscope
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1999-03-01
著者
-
岩崎 裕
阪大
-
IWASAKI Hiroshi
The Institute of Scient4fic and Industrial Research, Osaka University
-
YOSHINOBU Tatsuo
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
Li Nan
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
Yoshinobu T
Osaka Univ. Osaka Jpn
-
Yoshinobu Tatsuo
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Yoshinobu Tatsuo
Department Of Electrical Engineering Kyoto University:(present Address) The Institute Of Scientific
-
Li Nan
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Li Nan
Department Of Mechatronics And Precision Engineering Tohoku University
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