STMによるシリコン酸化膜を用いたナノ加工プロセス
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 1999-06-10
著者
-
吉信 達夫
Department of Electronic Engineering, Tohoku University
-
吉信 達夫
大阪大学産業科学研究所
-
岩崎 裕
大阪大学産業科学研究所
-
岩崎 裕
阪大
-
李 楠
大阪大学産業科学研究所
-
吉信 達夫
阪大・産研・量子分子デバイス : Jst Crest
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