Proximity Effect Correction by Pattern Modified Stencil Mask in Large-Field Projection Electron-Beam Lithography
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1998-12-30
著者
-
Nomura E
Nec Corp. Ibaraki Jpn
-
Nomura Eiichi
Fundamental Research Laboratories Nec Corporation
-
Nomura Eiichi
Fundamental Research Labs Nec Corporation
-
KOBINATA Hideo
ULSI Device Development Labs, NEC Corporation
-
YAMASHITA Hiroshi
ULSI Device Development Labs, NEC Corporation
-
NAKAJIMA Ken
ULSI Device Development Labs, NEC Corporation
-
KUROKI Yukinori
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
-
Kobinata Hideo
Ulsi Device Development Labs Nec Corporation
-
Kuroki Yukinori
Graduate School Of Information Science And Electrical Engineering Kyushu University
-
Nakajima Kensuke
Research Institute Of Electrical Communication Tohoku University
-
Yamashita H
Teikyo Univ. Tokyo Jpn
-
Yamashita Hiroshi
Ulsi Device Development Division Nec Corporation
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