Epitaxial Growth of Al on Si by Gas-Temperature-Controlled Chemical Vapor Deposition : Techniques, Instrumentations and Measurement
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1988-09-20
著者
-
Kobayashi Tsukasa
Anelva Corporation
-
HOSOKAWA Naokichi
ANELVA CORPORATION
-
SEKIGUCHI Atsushi
ANELVA Corporation
-
ASAMAKI Tatsuo
ANELVA Corporation
-
ASAMAKI Tatsuo
Department of Electrical Engineering, Science University of Tokyo
-
Asamaki T
Tokyo Univ. Sci. Tokyo Jpn
-
Hosokawa N
Anelva Corp. Tokyo Jpn
-
Sekiguchi A
Anelva Corp. Tokyo Jpn
-
Sekiguchi Atsushi
ANELVA CORP., Yotsuya 5-8-1, Fuchu 183-8508, Japan
関連論文
- 定年退職者あいさつ
- キャリヤーエンベロープ位相制御下での有機分子の光ポーリング
- 2005年ノーベル物理学賞; Roy J. Glauber氏, John L. Hall氏, Theodor W. Hansch氏
- 21aYD-4 アゾ色素の超高速分光(超高速現象・格子振動・緩和励起子,領域5(光物性))
- 19aYD-5 ポリフェニレンビニレンのフェムト秒時間分解分光(超高速現象,領域5(光物性))
- 21pWA-9 光子数識別器を用いた量子鍵配布実験(量子エレクトロニクス(量子光学),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 25aXP-3 チオフェンオリゴマーの超高速分光(超高速現象,領域5(光物性))
- 第14回超高速現象国際会議報告
- 15aTG-3 非平行光パラメトリック増幅器による搬送波包絡振幅位相制御光パルスの発生(量子エレクトロニクス, 領域 1)
- 14pTF-14 波長多重量子暗号鍵配布光源の開発及びその評価(量子エレクトロニクス : 量子光学, 領域 1)
- 14pTF-12 パラメトリノク下方変換光を用いたゲート 1 光子源の光子数識別による量子鍵配布の安全性およびヒソトレートの向上(量子エレクトロニクス : 量子光学, 領域 1)
- 29pXQ-3 ポリジアセチレンのフェムト秒実時間分光II(超高速現象)(領域5)
- 29pXQ-2 ポリジアセチレンのフェムト秒実時間分光I(超高速現象)(領域5)
- 29pXG-3 光ファイバを用いた周波数量子相関(量子エレクトロニクス(量子光学))(領域1)
- 20aTJ-10 フタロシアニン錯体の高速分光
- 20aTJ-9 無機有機層状ペロブスカイト半導体の超高速分光
- 21pTF-7 光子対の周波数の量子相関を用いた分光測定
- 28aYF-6 サブ 4 フェムト秒超短パルスを用いた超広帯域テラヘルツ光発生
- 28aYF-5 フタロシアニン錫のポンプ=プローブ法による超高速分光
- 29pYA-7 量子テレポーテーションのコヒーレント基底による解析
- 超短パルスレーザーの発展と分析への応用
- 固体物理学の周辺 超短パルスレーザーを用いた凝縮系物質の超高速動的過程の研究
- 非線形光学
- 20aTJ-7 サブ 5 フェムト秒実時間分光法で観る励起状態のダイナミクス
- 4-2 フェムト秒パルスレーザを用いた超高速分光(4.フェムト秒加工・計測(次世代産業基盤を支えるフェムト秒テクノロジーの動向))
- 超短パルスレーザーで解明する視覚初期過程の分子機構
- サブ5fsパルスの発生と超高速分光法
- 超短パルスレーザーによる光生物初期過程の分子機構解説--視覚を例として (特集ライフサイエンスフォトニクス)
- 29aYA-9 Kerr 媒質中の伝播による Schrodinger-cat-like state 発生の解析
- 17aRE-8 ISCによるフェムト秒パルス評価
- 有機非線型光学材料 (特集:有機材料)
- 超短パルスレーザ広帯域測定装置の開発による高精度時間分解分光計測技術
- Preparation of YBa_2Cu_3O_y Superconducting Thin Films by Radio-Frequency Plasma Flash Evaporation
- Gas-Temperature-Controlled (GTC) CVD of Aluminum and Aluminum-Silicon Alloy Film for VLSI Processing : Techniques, Instrumentations and Measurement
- Epitaxial Growth of Al on Si by Gas-Temperature-Controlled Chemical Vapor Deposition : Techniques, Instrumentations and Measurement
- 研究ニュース
- Changes in Health Habits of Female Shift Workers
- SI-2 A Study on Physiological Polymorphism in Thermoregulation during Exercise (Proceedings of the 49th Meeting of Japan Society of Physiological Anthropology)
- Filling of Sub-μm Through-holes by Self-sputter Deposition
- Copper Self-Sputtering by Planar Magnetron
- 新製品・新技術紹介 超短光パルスレーザーの絶対位相制御
- Dielectric and Piezoelectric Properties of 0.93Pb(Zn_Nb_)O_3-0.07PbTiO_3 Piezoelectric Single Crystals for Medical Array Transducers
- Temperature Dependence of Dielectric and Piezoelectric Properties of Pb (Zn_Nb_) O_3-PbTiO_3 Piezoelectric Single Crystals(Electrical Properties of Condensed Matter)
- Preparation of Pb(Zr, Ti)O_3 Thin Films by Multitarget Sputtering ( FERROELECTRIC MATERIALS AND THEIR APPLICATIONS)
- Preparation of Pb(Zr,Ti)O_3 Thin Films by Multi-Target Sputtering
- Pb(Zr, Ti)O_3 Thin-Film Preparation by Multitarget Magnetron Sputtering
- Bottom Coverage of Cu Deposit for 200-nm-Class Circular Vias with High Aspect Ratios Investigated by Magnetron Sputtering Activated Using Superconducting Bulk Magnet
- High-Vacuum Planar Magnetron Sputtering
- Reaction of Copper Oxide and β-Diketone for In situ Cleaning of Metal Copper in a Copper Chemical Vapor Deposition Reactor
- Deposition Rate and Gap Filling Characteristics in Cu Chemical Vapor Deposition with Trimethylvinylsilyl Hexafluoro-acetylacetonate Copper (I)
- Ba_2Y_1Cu_3O_ Oxidation by Thermodynamic Nonequilibrium High-Temperature (TNH) Plasma
- Remote Plasma SiO_2 Deposition by Tetraethoxysilane with Chemically and Energetically Different Atomic Species
- Superiority of O(^1D) atom for solid and gas phase reactions over O(^3P) atom
- Properties of Atomic Oxygen obtained from Thermodynamically Non-equilibrium High Temperature Plasma
- 29aYA-13 多モード 2 光子対の時間相関関数
- Development of a Fast-Cycle, Extremely High-Vacuum System Using Cryopump
- Study of Deprotection Reaction during Exposure in Chemically Amplified Resists for Lithography Simulation
- Analysis of Deprotection Reaction in Chemically Amplified Resists Using an Fourier Transform Infrared Spectrometer with an Exposure Tool
- Direct Measurement of Potential Distribution in Planar Magnetron Discharge by Probe Method
- 分光学における極限を探る : II. 極限的時間分解分光
- 27pHC-7 P3HT薄膜における束縛ポーラロンペアの超高速緩和過程(27pHC 非線形光学/超高速現象,領域5(光物性))
- Relationship between Energetic Neutrals and Impurities in Sputtered Films
- In Situ IR Spectroscopic Study of a-Si:H Films Growing under Photo-Chemical Vapor Deposition Condition : Surfaces, Interfaces and Films
- 24aED-1 光子対ビームによる二光子干渉及び偏光絡み合い(24aED 量子エレクトロニクス(光量子情報処理),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- Bottom Coverage of Cu Deposit for 200-nm-Class Circular Vias with High Aspect Ratios Investigated by Magnetron Sputtering Activated Using Superconducting Bulk Magnet
- Downstream Gas Temperature Variation of Glow and Plasmoidal Oxygen Radio Frequency Discharges